一种CMOS器件抗单粒子闭锁的加固方法
摘要:
本发明公开了一种CMOS器件抗单粒子闭锁的加固方法,对CMOS器件进行中子辐照,通过中子辐照引入位移损伤,使器件CMOS反相器内部寄生双极晶体管的电流增益降低到不致发生P-N-P-N闭锁,该加固方法是一种外部加固方法,不增加生产器件的工艺步骤,不用针对单粒子闭锁效应重新设计器件版图,不增加原有系统的复杂性。因此,不会改变器件的固有尺寸,也不会增加外围电路。
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