Invention Grant
- Patent Title: 晶片加工用带
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Application No.: CN201510870713.8Application Date: 2015-12-02
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Publication No.: CN105694748BPublication Date: 2019-07-30
- Inventor: 青山真沙美 , 大田乡史 , 木村和宽 , 佐久间登 , 杉山二朗
- Applicant: 古河电气工业株式会社
- Applicant Address: 日本国东京都
- Assignee: 古河电气工业株式会社
- Current Assignee: 古河电气工业株式会社
- Current Assignee Address: 日本国东京都
- Agency: 中科专利商标代理有限责任公司
- Agent 刘建
- Priority: 2014-246308 2014.12.04 JP
- Main IPC: C09J7/25
- IPC: C09J7/25 ; C09J7/24 ; H01L21/68 ; H01L21/78

Abstract:
本发明提供一种晶片加工用带,所述晶片加工用带能够降低标签痕迹的产生,且能够降低粘接剂层与粘合膜之间的空气(air)的卷入。其特征在于,具有:长的脱模膜(11);粘接剂层(12),其设置在脱模膜(11)的第1面上、且具有规定的平面形状;粘合膜(13),其具有标签部(13a)和包围标签部(13a)的外侧的周边部(13b),标签部(13a)以覆盖粘接剂层(12)、且在粘接剂层(12)的周围与上述脱模膜(11)接触的方式设置,并且具有规定的平面形状;以及支承构件(14),其设置在脱模膜(11)的与第1面相反的第2面上、且为脱模膜(12)的短边方向的两端部,并且以达到所述脱模膜(11)的短边方向中的与粘接剂层(12)的端部对应的区域的方式设置。
Public/Granted literature
- CN105694748A 晶片加工用带 Public/Granted day:2016-06-22
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IPC分类: