利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册
发明授权
CN105706002B 带有简化光学元件的远紫外线(EUV)基板检查系统及其制造方法 有权

带有简化光学元件的远紫外线(EUV)基板检查系统及其制造方法
摘要：
一种远紫外线(EUV)基板检查系统及其制造方法，包含：EUV来源，该EUV来源引导EUV照射穿过光圈；光检测器，该光检测器检测带有由基板反射离开的减低的偏离轴的射线的掩模照射；及计算机装置，该计算机装置处理由该光检测器检测到的图像数据。
摘要（英）：

An extreme ultraviolet (EUV) substrate inspection system and method of manufacturing thereof, includes: an EUV source directing EUV illumination through an aperture; a light detector detecting mask illumination with reduced off axis rays reflected off from a substrate; and a computing device processing image data detected by the light detector.

公开/授权文献
0/0