公开(公告)号：CN105706002B

公开(公告)日：2018-03-09

申请号：CN201480058806.4

申请日：2014-12-18

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 马耶德·A·福阿德 ,  克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ,  克里斯多弗·G·塔尔博特 ,  约翰·克里斯多弗·莫兰

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G01N21/95 ,  G01N21/956 ,  G01N2021/95676 ,  G01N2201/061

Abstract: 一种远紫外线(EUV)基板检查系统及其制造方法，包含：EUV来源，该EUV来源引导EUV照射穿过光圈；光检测器，该光检测器检测带有由基板反射离开的减低的偏离轴的射线的掩模照射；及计算机装置，该计算机装置处理由该光检测器检测到的图像数据。

公开(公告)号：CN105706002A

公开(公告)日：2016-06-22

申请号：CN201480058806.4

申请日：2014-12-18

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 马耶德·A·福阿德 ,  克里斯多弗·丹尼斯·本彻 ,  克里斯多弗·G·塔尔博特 ,  约翰·克里斯多弗·莫兰

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G01N21/95 ,  G01N21/956 ,  G01N2021/95676 ,  G01N2201/061

Abstract: 一种远紫外线(EUV)基板检查系统及其制造方法，包含：EUV来源，该EUV来源引导EUV照射穿过光圈；光检测器，该光检测器检测带有由基板反射离开的减低的偏离轴的射线的掩模照射；及计算机装置，该计算机装置处理由该光检测器检测到的图像数据。