一种MEMS加速度传感器及制造方法
摘要:
本发明涉及传感器加工技术领域,尤其涉及基于MEMS加工工艺制成的MEMS加速度传感器,包括硅衬底、硅衬底中的第一预定空腔及第一预定空腔上方的悬空硅膜、至少一个第二预定空腔及其第二预定空腔上方的悬空硅膜、半导体掺杂电阻,半导体掺杂与导电线电连接;于第一预定空腔上方形成第一连接件、第一释放槽,于第二预定空腔上方形成限位挡板、第二释放槽、第二连接件,第一释放槽结合第二释放槽形成一悬空释放结构;其中,限位挡板一端连接硅衬底,另一端自由悬空,第一连接件、第二连接件一端与硅衬底连接,另一端和第一预定空腔上方的悬空硅膜连接,通过悬空释放结构中的限位挡板实现精确的限位过载保护目的,结构简单,且易于加工。
公开/授权文献
0/0