发明公开
- 专利标题: 等离激元窄带吸收薄膜
- 专利标题(英): Plasmon narrowband absorption film
-
申请号: CN201510106462.6申请日: 2015-03-11
-
公开(公告)号: CN106033829A公开(公告)日: 2016-10-19
- 发明人: 黄增立 , 王建峰 , 刘争晖 , 徐耿钊 , 钟海舰 , 樊英民 , 徐科
- 申请人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
- 申请人地址: 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号
- 专利权人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
- 当前专利权人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
- 当前专利权人地址: 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号
- 代理机构: 上海翼胜专利商标事务所
- 代理商 翟羽
- 主分类号: H01P1/20
- IPC分类号: H01P1/20 ; B82Y20/00
摘要:
本发明提供一种等离激元窄带吸收薄膜,包括基底层及设置于所述基底层表面的介质层,还包括设置在所述介质层表面的隔离层及设置在所述隔离层表面的介电颗粒层,所述介电颗粒层由多个介电颗粒按一定周期排列形成。本发明的优点在于:1、相比于金属颗粒中的自由电子的等离激元共振,热损耗能够大大降低。2、能够实现强局域的电磁共振窄波长光吸收,进一步增强电磁波与介电颗粒作用强度,因此可以在不均匀的环境中实现窄波长的强局域共振响应。3、可以调节电磁能量在介质层和介电颗粒的吸收比例,从而降低金属热损耗。
公开/授权文献
- CN106033829B 等离激元窄带吸收薄膜 公开/授权日:2019-04-23