- 专利标题： 等离子体射流装置及抑制环氧树脂表面电荷积聚的方法
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申请号： CN201610509779.9申请日： 2016-07-01
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公开(公告)号： CN106132056B公开(公告)日： 2019-01-01
- 发明人: 邵涛 , 海彬 , 王瑞雪 , 任成燕 , 章程 , 严萍
- 申请人： 中国科学院电工研究所
- 申请人地址： 北京市海淀区中关村北二条六号
- 专利权人： 中国科学院电工研究所
- 当前专利权人： 中国科学院电工研究所
- 当前专利权人地址： 北京市海淀区中关村北二条六号
- 代理机构： 北京君泊知识产权代理有限公司
- 代理商 王程远; 胡玉章
- 主分类号： H05H1/26
- IPC分类号： H05H1/26 ; C08J7/06 ; C08L63/00
摘要：
本发明涉及一种等离子体射流装置及抑制环氧树脂表面电荷积聚的方法。一种等离子体射流装置，包括：中空金属毛细管，其外部套有石英玻璃管，二者组合为大气压等离子体射流的射流管，所述射流管接高压电源同时接地，且所述中空金属毛细管的顶端设有进气口；加热平台，其位于所述射流管底部，所述加热平台上放置样品，且所述加热平台接地。本发明所述装置结构简单，方法简便易行、效果持久、处理效率高、对环境影响小，因此适合于工业生产应用。
公开/授权文献
- CN106132056A 等离子体射流装置及抑制环氧树脂表面电荷积聚的方法 公开/授权日：2016-11-16
IPC分类:
