用于控制熔体内的热流的装置及其处理方法
Abstract:
本发明提供一种用于控制熔体内的热流的装置及其处理方法。装置可包括坩埚,用以容纳熔体,而熔体具有暴露面。装置也可包括加热器与散热屏障总成。加热器配置于坩埚的第一侧的下方,用以提供热以穿过熔体而至暴露面。散热屏障总成包括至少一散热屏障,配置于坩埚内,并在熔体中定义隔离区与外围区。所述装置用以容纳或限制热流,所以表面的热流会受规范。
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