发明授权
- 专利标题: 电容器结构及其制造方法
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申请号: CN201510322889.X申请日: 2015-06-12
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公开(公告)号: CN106298980B公开(公告)日: 2019-04-16
- 发明人: 车行远 , 薛杏岚
- 申请人: 力晶科技股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹科学工业园区
- 专利权人: 力晶科技股份有限公司
- 当前专利权人: 力晶积成电子制造股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹科学工业园区
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 陈小雯
- 优先权: 104117462 2015.05.29 TW
- 主分类号: H01L29/92
- IPC分类号: H01L29/92 ; H01L23/522 ; H01L21/02
摘要:
本发明公开一种电容器结构及其制造方法,该电容器结构包括:基底、介电层、第一导体层以及杯状电容器。介电层位于基底上。第一导体层位于介电层中。杯状电容器贯穿第一导体层且位于介电层中。杯状电容器包括下电极、电容介电层以及上电极。下电极的两侧壁与第一导体层电连接。电容介电层覆盖下电极的表面。上电极覆盖电容介电层的表面。电容介电层配置在上电极与下电极之间。下电极的顶面低于上电极的顶面。本发明另提供一种电容器结构的制造方法。
公开/授权文献
- CN106298980A 电容器结构及其制造方法 公开/授权日:2017-01-04
IPC分类: