发明公开
CN106406038A 一种曝光机
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种曝光机
- 专利标题(英): Exposure machine
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申请号: CN201610922204.X申请日: 2016-10-21
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公开(公告)号: CN106406038A公开(公告)日: 2017-02-15
- 发明人: 张力舟 , 高鸿飞 , 吴彬 , 马纪艳 , 高琪 , 王辉 , 王志强
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- 代理商 申健
- 主分类号: G03F9/00
- IPC分类号: G03F9/00
摘要:
本发明提供了一种曝光机,涉及曝光技术领域,以在满足从多个方向对掩膜版和显示基板进行对位的同时,降低曝光机的生产成本。其中,所述曝光机包括两套检出系,所述两套检出系所在的平面平行且高于掩膜版所在的平面,两套所述检出系分别平行且对应于所述掩膜版相对的第一边和第二边,所述曝光机还包括驱动模块、以及通过履带连接的主动轮和从动轮,所述两套检出系固装在所述从动轮的端面上,所述主动轮与所述驱动模块连接,所述驱动模块能够驱动所述主动轮转动,所述从动轮在所述主动轮的带动下转动,所述两套检出系在所在平面内随所述从动轮转动第一角度;其中,所述第一角度为大于零的任一角度值。本发明提供的曝光机用于对显示基板进行曝光。
公开/授权文献
- CN106406038B 一种曝光机 公开/授权日:2018-03-09