对位方法及对位系统
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106054543B

    公开(公告)日:2018-09-04

    申请号:CN201610682413.1

    申请日:2016-08-17

    IPC分类号: G03F9/00

    摘要: 本发明提供一种对位方法及对位系统,其方法包括:采集步骤,采集各个对位区域的图像;判断步骤,判断所有的图像中对位标记的匹配程度是否均达到设定标准,若是,则根据所有的对位区域进行对位步骤;若否,则进行筛选步骤;筛选步骤,自所有的对位区域中筛选出匹配程度最高的至少一个对位区域,并根据筛选出的至少一个对位区域进行对位步骤;对位步骤,将基板的对位标记与掩膜版的对位标记进行对中,以实现基板和掩膜版的位置匹配。本发明提供的对位方法,其可以提高自动对位的成功率,从而不仅可以避免因对位误差过大而造成的层间对位偏移,而且还可以提高对位效率,从而提高产能。

    对位方法及对位系统
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106054543A

    公开(公告)日:2016-10-26

    申请号:CN201610682413.1

    申请日:2016-08-17

    IPC分类号: G03F9/00

    CPC分类号: G03F9/7073

    摘要: 本发明提供一种对位方法及对位系统,其方法包括:采集步骤,采集各个对位区域的图像;判断步骤,判断所有的图像中对位标记的匹配程度是否均达到设定标准,若是,则根据所有的对位区域进行对位步骤;若否,则进行筛选步骤;筛选步骤,自所有的对位区域中筛选出匹配程度最高的至少一个对位区域,并根据筛选出的至少一个对位区域进行对位步骤;对位步骤,将基板的对位标记与掩膜版的对位标记进行对中,以实现基板和掩膜版的位置匹配。本发明提供的对位方法,其可以提高自动对位的成功率,从而不仅可以避免因对位误差过大而造成的层间对位偏移,而且还可以提高对位效率,从而提高产能。

    掩模板探伤装置及探伤方法

    公开(公告)号:CN108227371A

    公开(公告)日:2018-06-29

    申请号:CN201810004926.6

    申请日:2018-01-03

    IPC分类号: G03F1/84

    摘要: 本公开提供一种掩模板探伤装置及探伤方法,涉及显示技术领域。该掩模板探伤装置包括:光量接收器,设置于掩模板载物台的一侧并能沿所述掩模板载物台的下方运动,用于接收透过掩模板的光信号;光电转换模块,用于将所述光信号转换为电信号;计算模块,用于将基于待测掩模板经过光电转换而得到的电信号与预设的参考电信号进行对比,以判断对比结果是否超出阈值范围;报警模块,用于在所述对比结果超出所述阈值范围时发出警报。本公开可及时发现掩模板表面的划伤或污染,从而避免产生批量产品的不良,还能提醒工作人员及时查看并清理掩模板表面的异物,从而延长掩模板的使用寿命,同时降低成本并节约产能。

    管路清洁装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108188118A

    公开(公告)日:2018-06-22

    申请号:CN201810002071.3

    申请日:2018-01-02

    IPC分类号: B08B9/051

    摘要: 本发明涉及一种管路清洁装置,所述管路清洁装置,包括第一行进单元、清洗单元以及为所述第一行进单元和清洗单元提供动力的动力单元,其中所述动力单元与所述第一行进单元活动连接,且所述第一行进单元在所述管路清洁装置的运动方向上与所述动力单元产生相对位移,而带动所述管路清洁装置移动;所述清洁单元清洗单元包括可转动的清洁毛刷。根据本发明的实施例,可以通过清洁毛刷对管路内壁附着在管路内壁的污渍直接清洗,而且通过清洁毛刷来清洁管路内部的污渍,避免了清洗剂对设备内易腐蚀的零部件的损害。此外,本发明的实施例所提供的管路清洁装置可用于清洁长度较长的管路。

    一种曝光机
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106406038A

    公开(公告)日:2017-02-15

    申请号:CN201610922204.X

    申请日:2016-10-21

    IPC分类号: G03F9/00

    CPC分类号: G03F9/7096 G03F7/70475

    摘要: 本发明提供了一种曝光机,涉及曝光技术领域,以在满足从多个方向对掩膜版和显示基板进行对位的同时,降低曝光机的生产成本。其中,所述曝光机包括两套检出系,所述两套检出系所在的平面平行且高于掩膜版所在的平面,两套所述检出系分别平行且对应于所述掩膜版相对的第一边和第二边,所述曝光机还包括驱动模块、以及通过履带连接的主动轮和从动轮,所述两套检出系固装在所述从动轮的端面上,所述主动轮与所述驱动模块连接,所述驱动模块能够驱动所述主动轮转动,所述从动轮在所述主动轮的带动下转动,所述两套检出系在所在平面内随所述从动轮转动第一角度;其中,所述第一角度为大于零的任一角度值。本发明提供的曝光机用于对显示基板进行曝光。

    管路清洁装置
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108188118B

    公开(公告)日:2020-03-06

    申请号:CN201810002071.3

    申请日:2018-01-02

    IPC分类号: B08B9/051

    摘要: 本发明涉及一种管路清洁装置,所述管路清洁装置,包括第一行进单元、清洗单元以及为所述第一行进单元和清洗单元提供动力的动力单元,其中所述动力单元与所述第一行进单元活动连接,且所述第一行进单元在所述管路清洁装置的运动方向上与所述动力单元产生相对位移,而带动所述管路清洁装置移动;所述清洁单元清洗单元包括可转动的清洁毛刷。根据本发明的实施例,可以通过清洁毛刷对管路内壁附着在管路内壁的污渍直接清洗,而且通过清洁毛刷来清洁管路内部的污渍,避免了清洗剂对设备内易腐蚀的零部件的损害。此外,本发明的实施例所提供的管路清洁装置可用于清洁长度较长的管路。

    一种曝光距离调整方法及装置

    公开(公告)号:CN107315322A

    公开(公告)日:2017-11-03

    申请号:CN201710596794.6

    申请日:2017-07-20

    IPC分类号: G03F7/20

    CPC分类号: G03F7/70775 G03F7/7085

    摘要: 本发明提出一种曝光距离调整方法及装置,其中,曝光距离调整方法包括:根据玻璃基板厚度,设定探测器的探测范围,若所需的目标曝光间距处于探测范围外,设定处于探测范围内的中介曝光间距。并在控制探测器依据探测范围探测曝光距离的过程中,控制曝光机调整曝光距离,直至探测器探测到的曝光距离达到中介曝光间距。再根据目标曝光间距与中介曝光间距的差值,继续控制曝光机调整曝光距离,以使调整后的曝光距离达到目标曝光间距。因此,可以通过设定排除玻璃厚度干扰波的探测范围,避免了探测器宕机情况的出现,从而实现了薄玻璃基板情况下的曝光距离调整。解决了现有技术中接近式曝光机难以完成薄玻璃基板的曝光工艺的技术问题。

    一种曝光距离调整方法及装置

    公开(公告)号:CN107315322B

    公开(公告)日:2018-09-07

    申请号:CN201710596794.6

    申请日:2017-07-20

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 本发明提出一种曝光距离调整方法及装置,其中,曝光距离调整方法包括:根据玻璃基板厚度,设定探测器的探测范围,若所需的目标曝光间距处于探测范围外,设定处于探测范围内的中介曝光间距。并在控制探测器依据探测范围探测曝光距离的过程中,控制曝光机调整曝光距离,直至探测器探测到的曝光距离达到中介曝光间距。再根据目标曝光间距与中介曝光间距的差值,继续控制曝光机调整曝光距离,以使调整后的曝光距离达到目标曝光间距。因此,可以通过设定排除玻璃厚度干扰波的探测范围,避免了探测器宕机情况的出现,从而实现了薄玻璃基板情况下的曝光距离调整。解决了现有技术中接近式曝光机难以完成薄玻璃基板的曝光工艺的技术问题。

    一种曝光机
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106406038B

    公开(公告)日:2018-03-09

    申请号:CN201610922204.X

    申请日:2016-10-21

    IPC分类号: G03F9/00

    摘要: 本发明提供了一种曝光机,涉及曝光技术领域,以在满足从多个方向对掩膜版和显示基板进行对位的同时,降低曝光机的生产成本。其中,所述曝光机包括两套检出系,所述两套检出系所在的平面平行且高于掩膜版所在的平面,两套所述检出系分别平行且对应于所述掩膜版相对的第一边和第二边,所述曝光机还包括驱动模块、以及通过履带连接的主动轮和从动轮,所述两套检出系固装在所述从动轮的端面上,所述主动轮与所述驱动模块连接,所述驱动模块能够驱动所述主动轮转动,所述从动轮在所述主动轮的带动下转动,所述两套检出系在所在平面内随所述从动轮转动第一角度;其中,所述第一角度为大于零的任一角度值。本发明提供的曝光机用于对显示基板进行曝光。

    掩膜板检查组件及曝光机
    10.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207867212U

    公开(公告)日:2018-09-14

    申请号:CN201820003651.X

    申请日:2018-01-02

    IPC分类号: G03F1/84 G03F7/20

    摘要: 本实用新型公开一种掩膜板检查组件及曝光机,属于曝光技术领域。掩膜板检查组件包括:控制件和m对检查件,m为正整数;m对检查件设置于掩膜板的待检查板面所在侧,每对检查件包括光发射器和光接收器,每对检查件的光发射器与每对检查件的光接收器相对设置,且每对检查件的光发射器和光接收器分别与控制件电连接;控制件用于控制目标检查件的光发射器发射光线,根据目标检查件的光接收器是否接收到目标检查件的光发射器发射的光线,来检查掩膜板的待检查板面上是否存在异物,目标检查件为m对检查件中的任一检查件。本实用新型有助于解决掩膜板的检查效率较低的问题,有助于提高掩膜板的检查效率。本实用新型用于掩膜板检查。