发明公开
CN106604419A 一种灯加热的基片温控系统
无效 - 撤回
- 专利标题: 一种灯加热的基片温控系统
- 专利标题(英): Lamp-heating substrate temperature control system
-
申请号: CN201510676284.0申请日: 2015-10-15
-
公开(公告)号: CN106604419A公开(公告)日: 2017-04-26
- 发明人: 刘忆军 , 吴围 , 于棚
- 申请人: 沈阳拓荆科技有限公司
- 申请人地址: 辽宁省沈阳市浑南新区新源街1-1号三层
- 专利权人: 沈阳拓荆科技有限公司
- 当前专利权人: 沈阳拓荆科技有限公司
- 当前专利权人地址: 辽宁省沈阳市浑南新区新源街1-1号三层
- 代理机构: 沈阳维特专利商标事务所
- 代理商 甄玉荃; 陈福昌
- 主分类号: H05B3/00
- IPC分类号: H05B3/00 ; H05B3/02
摘要:
一种灯加热的基片温控系统,主要解决现有温控系统对基片表面温度无法控制的问题。本发明提供一种灯加热的基片温控系统,包括灯管、基片支架和功率控制器。本发明的灯加热温控系统可以很好的控制基片在工艺反应中的基片温升情况,并且可以实现产品的连续性生产,大幅度的提高设备的产能,具有构思独特、简单易行,适用于半导体设备的低温工艺中,具有良好的推广前景。