一种灯加热的基片温控系统
摘要:
一种灯加热的基片温控系统,主要解决现有温控系统对基片表面温度无法控制的问题。本发明提供一种灯加热的基片温控系统,包括灯管、基片支架和功率控制器。本发明的灯加热温控系统可以很好的控制基片在工艺反应中的基片温升情况,并且可以实现产品的连续性生产,大幅度的提高设备的产能,具有构思独特、简单易行,适用于半导体设备的低温工艺中,具有良好的推广前景。
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