发明公开
- 专利标题: 一种阵列基板、阵列基板的制备方法及其显示面板
- 专利标题(英): Array substrate and preparation method thereof, and display panel
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申请号: CN201710011047.1申请日: 2017-01-06
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公开(公告)号: CN106711153A公开(公告)日: 2017-05-24
- 发明人: 曹可 , 杨成绍 , 林亮
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构: 北京同达信恒知识产权代理有限公司
- 代理商 黄志华
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12 ; H01L21/77 ; G02F1/1362
摘要:
本申请提供一种阵列基板、阵列基板的制备方法及其显示面板,以降低阵列基板的薄膜晶体管的漏电流,避免包括阵列基板的显示面板出现充电不足,画面保持率低的问题。本申请提供的阵列基板的制备方法,在衬底基板上依次形成栅极、栅极绝缘层以及有源层的图案之后,还包括:形成至少在第一区域的厚度大于其它区域的光刻胶层的图案,所述第一区域在所述衬底基板上的正投影至少覆盖有源层的沟道区在所述衬底基板上的正投影;去除所述第一区域以外其它区域的光刻胶层;碳化所述第一区域的光刻胶层,形成遮光层的图案。
IPC分类: