Invention Grant
- Patent Title: 一种阵列基板、显示面板及阵列基板制备方法
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Application No.: CN201710047075.9Application Date: 2017-01-22
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Publication No.: CN106711156BPublication Date: 2020-06-12
- Inventor: 肖志莲 , 蒋会刚 , 裴晓光 , 刘冲 , 赵海生 , 黄雄天 , 肖红玺
- Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
- Applicant Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- Assignee: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司
- Current Assignee: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司
- Current Assignee Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- Agency: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- Agent 刘悦晗; 陈源
- Main IPC: H01L27/12
- IPC: H01L27/12 ; H01L21/77
Abstract:
本发明提供一种阵列基板、显示面板及阵列基板制备方法，阵列基板包括形成在基底上的保护层，以及贯穿所述保护层的过孔，还包括第一导电层，第一导电层位于形成有所述过孔的保护层上远离所述基底的一侧。通过令第一导电层在过孔底部的厚度大于第一导电层在非过孔区域的厚度，即增加了第一导电层在过孔底部的厚度，可以减小过孔中孔底与孔顶的段差，从而减小过孔内部第一导电膜层脱落的风险，进而避免电极信号中断，提高TFT的电连接性能。
Public/Granted literature
- CN106711156A 一种阵列基板、显示面板及阵列基板制备方法 Public/Granted day:2017-05-24
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IPC分类:
