发明授权
- 专利标题: 粗糙化处理铜箔、覆铜层叠板和印刷电路板
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申请号: CN201680003882.4申请日: 2016-04-06
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公开(公告)号: CN107002249B公开(公告)日: 2018-05-22
- 发明人: 茂木晓 , 津吉裕昭
- 申请人: 三井金属矿业株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 三井金属矿业株式会社
- 当前专利权人: 纳美仕有限公司
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇; 李茂家
- 优先权: 2015-194225 2015.09.30 JP
- 国际申请: PCT/JP2016/061317 2016.04.06
- 国际公布: WO2017/056534 JA 2017.04.06
- 进入国家日期: 2017-05-27
- 主分类号: C23C26/00
- IPC分类号: C23C26/00 ; B32B15/20 ; C25D1/04 ; H05K1/09
摘要:
本发明提供能够显著地提高与绝缘树脂的密合性和可靠性(例如吸湿耐热性)的粗糙化处理铜箔。本发明的粗糙化处理铜箔在至少一侧具有具备由针状结晶构成的微细凹凸的粗糙化处理面,针状结晶的表面全部由Cu金属和Cu2O的混相构成。
公开/授权文献
- CN107002249A 粗糙化处理铜箔、覆铜层叠板和印刷电路板 公开/授权日:2017-08-01
IPC分类: