发明授权
- 专利标题: 沉积用掩模的制造方法
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申请号: CN201710064161.0申请日: 2017-02-04
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公开(公告)号: CN107424909B公开(公告)日: 2023-12-19
- 发明人: 文英慜 , 任星淳
- 申请人: 三星显示有限公司
- 申请人地址: 韩国京畿道
- 专利权人: 三星显示有限公司
- 当前专利权人: 三星显示有限公司
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道
- 代理机构: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
- 代理商 王达佐; 刘铮
- 优先权: 10-2016-0060363 2016.05.17 KR
- 主分类号: H01L21/02
- IPC分类号: H01L21/02 ; H01L21/77
摘要:
本发明实施方式公开了沉积用掩模的制造方法,该方法使用电铸镀将金属镀层在电极板上来制造包括焊接部、肋部和图案部的沉积用掩模,该方法包括:将第一光致抗蚀剂层涂覆在电极板上;向第一光致抗蚀剂层照射光,其中,半色调掩模布置在光源与第一光致抗蚀剂层之间,以在第一光致抗蚀剂层上形成多个曝光区域,其中,半色调掩模具有阻断区域、透射区域以及一个或多个半透射区域;对多个曝光区域进行显影,以将第一镀层区域暴露至外部;将第一金属层镀层在第一镀层区域上;对第一光致抗蚀剂层进行灰化,以将第二镀层区域暴露至外部;将第二金属层镀层在第一金属层和电极板上的第二镀层区上;以及去除第一光致抗蚀剂层和电极板。
公开/授权文献
- CN107424909A 沉积用掩模的制造方法 公开/授权日:2017-12-01
IPC分类: