吸附装置、真空处理装置
摘要:
【课题】提供吸附力不会变弱的吸附装置。【解决方案】将吸附装置19a的受电端子24配置于受电侧凹部23内,能够利用盖部25a盖上。在对基板51~53进行吸附时,将吸附装置19a载置于供电台18a上,使供电端子64与受电端子24接触,对基板51~53与吸附电极22之间的等效电容进行充电。在使吸附装置19a移动时,一边由于等效电容的残留电荷吸附基板51~53一边利用盖部25a盖上受电侧凹部23,真空槽中的残留气体不会与受电端子24接触。没有受电端子24腐蚀或者形成薄膜的情况,不会放出等效电容的残留电荷。
公开/授权文献
0/0