发明授权
- 专利标题: 吸附装置、真空处理装置
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申请号: CN201680022120.9申请日: 2016-04-11
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公开(公告)号: CN107431040B公开(公告)日: 2020-10-16
- 发明人: 川久保大辅 , 前平谦 , 不破耕 , 铃木杰之
- 申请人: 株式会社爱发科
- 申请人地址: 日本神奈川县
- 专利权人: 株式会社爱发科
- 当前专利权人: 株式会社爱发科
- 当前专利权人地址: 日本神奈川县
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 闫小龙; 郑冀之
- 优先权: 2015-083775 2015.04.15 JP
- 国际申请: PCT/JP2016/061719 2016.04.11
- 国际公布: WO2016/167224 JA 2016.10.20
- 进入国家日期: 2017-10-16
- 主分类号: H01L21/683
- IPC分类号: H01L21/683 ; B65G49/00 ; H02N13/00
摘要:
【课题】提供吸附力不会变弱的吸附装置。【解决方案】将吸附装置19a的受电端子24配置于受电侧凹部23内,能够利用盖部25a盖上。在对基板51~53进行吸附时,将吸附装置19a载置于供电台18a上,使供电端子64与受电端子24接触,对基板51~53与吸附电极22之间的等效电容进行充电。在使吸附装置19a移动时,一边由于等效电容的残留电荷吸附基板51~53一边利用盖部25a盖上受电侧凹部23,真空槽中的残留气体不会与受电端子24接触。没有受电端子24腐蚀或者形成薄膜的情况,不会放出等效电容的残留电荷。
公开/授权文献
- CN107431040A 吸附装置、真空处理装置 公开/授权日:2017-12-01