发明公开
- 专利标题: 阵列基板及制备方法和显示装置
- 专利标题(英): Array substrate, preparing method and display device
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申请号: CN201710919671.1申请日: 2017-09-30
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公开(公告)号: CN107579083A公开(公告)日: 2018-01-12
- 发明人: 张保侠 , 盖翠丽 , 王玲
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京清亦华知识产权代理事务所
- 代理商 黄德海
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12 ; H01L21/77
摘要:
本发明公开了一种阵列基板及制备方法和显示装置,阵列基板包括:电容器,电容器包括多个金属电极,多个金属电极在平行于阵列基板所在平面的水平方向上间隔设置,电容器中至少一个金属电极在阵列基板所在平面的正投影包括弯曲部。本发明的阵列基板,可增大存储电容量,减小电容器的占用空间。
公开/授权文献
- CN107579083B 阵列基板及制备方法和显示装置 公开/授权日:2024-06-11
IPC分类: