显示基板及其修复方法和显示面板

    公开(公告)号:CN107731878B

    公开(公告)日:2020-04-28

    申请号:CN201711026409.0

    申请日:2017-10-27

    IPC分类号: H01L27/32

    摘要: 本发明提供一种显示基板及其修复方法和显示面板,该显示基板的修复方法包括:在检测到所述信号线具有故障点时,通过分别位于故障点所在的信号线延伸方向两侧的驱动电源线的部分线路,和垂直于故障点所在的信号线延伸方向位于所述故障点一侧的驱动电源线的部分线路将故障点两侧短接,该修复方法可提高显示基板的良率。

    显示面板、显示设备及补偿方法

    公开(公告)号:CN108133947B

    公开(公告)日:2019-11-08

    申请号:CN201611090721.1

    申请日:2016-12-01

    IPC分类号: H01L27/32 G09G3/3225

    摘要: 一种显示面板、显示设备及补偿方法,该显示面板包括多个像素单元组、多条感测线、多条感测控制线、多条栅线、多条第一数据线和多条第二数据线,每个像素单元组包括位于两行和多列中的多个像素单元,每个像素单元组中的像素单元与同一条栅线连接,以接收相同的栅极信号,每个像素单元组中每列两个像素单元中的一个与其对应的一条第一数据线连接,每个像素单元组中每列两个像素单元中的另一个与其对应一条第二数据线连接,每个像素单元组中的像素单元与同一条感测线连接,像素单元包括有机发光二极管,感测线用于感测有机发光二极管的发光电流或发光电压。该显示面板可以提升像素单元的开口率、为像素单元提供更充足的充电时间以及加快感测速度。

    阵列基板及制备方法和显示装置

    公开(公告)号:CN107579083A

    公开(公告)日:2018-01-12

    申请号:CN201710919671.1

    申请日:2017-09-30

    IPC分类号: H01L27/12 H01L21/77

    摘要: 本发明公开了一种阵列基板及制备方法和显示装置,阵列基板包括:电容器,电容器包括多个金属电极,多个金属电极在平行于阵列基板所在平面的水平方向上间隔设置,电容器中至少一个金属电极在阵列基板所在平面的正投影包括弯曲部。本发明的阵列基板,可增大存储电容量,减小电容器的占用空间。

    一种阵列基板及其短路修复方法和显示装置

    公开(公告)号:CN107463038A

    公开(公告)日:2017-12-12

    申请号:CN201710728812.1

    申请日:2017-08-23

    IPC分类号: G02F1/1362 G02F1/13

    摘要: 本发明提供一种阵列基板及其短路修复方法和显示装置。该阵列基板包括相互空间交叉且绝缘的第一导电线和第二导电线,还包括备用修复线,备用修复线设置在第一导电线和第二导电线的交叉位置,且与第一导电线和第二导电线位于不同层,备用修复线能在第一导电线和第二导电线在交叉位置发生短路时对靠近其的第一导电线或第二导电线进行切断修复。该阵列基板相比于现有技术中备用修复线与发生短路时被切断且需要修复的信号线同层设置的情况,增大了备用修复线与未切断的导电线之间的绝缘距离,从而减小了备用修复线与未切断的导电线之间发生短路的可能性,进而实现了对短路时切断的导电线的可靠修复。

    阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置

    公开(公告)号:CN107946321B

    公开(公告)日:2022-06-28

    申请号:CN201711322180.5

    申请日:2017-12-12

    摘要: 本发明公开一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置,所述阵列基板包括层叠设置在基底上的遮光层和有源层,所述遮光层位于靠近所述基底的一侧,所述遮光层在所述基底上的正投影覆盖所述有源层在所述基底上的正投影;所述遮光层为黑色有机物材料。本发明实施例的阵列基板,在基底上设置有遮光层和有源层,遮光层设置在靠近基底的一侧,且遮光层在基底上的正投影覆盖有源层在基底上的正投影,使遮光层可以完全遮挡有源层,防止光照对有源层产生影响,且本发明实施例的遮光层采用黑色有机物材料,不导电,可以直接设置在基底上,并在其上方形成阵列基板的其他结构,不用增加过孔和换层而多占布局空间,工艺简单,遮光效果好,且易于实现高PPI。

    薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板及其制备方法

    公开(公告)号:CN108807547B

    公开(公告)日:2021-01-22

    申请号:CN201710311944.4

    申请日:2017-05-05

    IPC分类号: H01L29/786 H01L27/12

    摘要: 本公开提供了一种薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板及其制备方法。该薄膜晶体管包括:衬底基板以及设置于所述衬底基板上的金属遮光层、第一有源层、栅电极、源电极和漏电极;设置于所述第一有源层和所述金属遮光层之间的间隔层;其中,所述第一有源层包括沟道区,所述间隔层设置于所述沟道区和所述金属遮光层之间。间隔层可以增加有源层的沟道区与金属遮光层之间的间隔距离,以降低或消除有源层的沟道区与金属遮光层之间的寄生电容问题,可以提高薄膜晶体管的电学性能。