发明授权
- 专利标题: 在牺牲核上经由包覆的晶体管鳍形成
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申请号: CN201580080367.1申请日: 2015-06-26
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公开(公告)号: CN107615490B公开(公告)日: 2022-02-11
- 发明人: G.A.格拉斯 , A.S.墨菲 , D.B.奥伯廷 , T.加尼 , J.T.卡瓦利罗斯 , B.朱-龚 , C.S.莫哈帕特拉 , K.詹布纳坦 , G.德维 , W.拉克马迪
- 申请人: 英特尔公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 英特尔公司
- 当前专利权人: 英特尔公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 李啸; 刘春元
- 国际申请: PCT/US2015/037921 2015.06.26
- 国际公布: WO2016/209253 EN 2016.12.29
- 进入国家日期: 2017-11-24
- 主分类号: H01L29/78
- IPC分类号: H01L29/78 ; H01L21/336
摘要:
公开了用于定制基于鳍的晶体管装置以提供范围广泛的沟道配置和/或材料系统,并且在相同集成电路管芯内的技术。根据一实施例,包覆并且随后去除牺牲鳍,由此留下包覆层作为一对独立的鳍。一旦牺牲鳍区域被适合的绝缘体回填,得到的结构便是绝缘体上鳍。通过使用此类核上包覆方案,新鳍能够以任何材料配置。得到的绝缘体上鳍例如在消除或以其它方式降低子沟道源极到漏极(或漏极到源极)泄露电流的同时对良好的栅极控制是有利的。另外,大幅降低了来自沟道到衬底的寄生电容。牺牲鳍能够被视为是核,并且能够例如使用原生于衬底的材料或允许低缺陷异类包覆材料组合的替换材料来实现。
公开/授权文献
- CN107615490A 在牺牲核上经由包覆的晶体管鳍形成 公开/授权日:2018-01-19
IPC分类: