发明公开
CN107644879A 制备阵列基板的方法、阵列基板、显示装置
失效 - 权利终止
- 专利标题: 制备阵列基板的方法、阵列基板、显示装置
- 专利标题(英): Array substrate preparation method, array substrate and display device
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申请号: CN201710848240.0申请日: 2017-09-19
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公开(公告)号: CN107644879A公开(公告)日: 2018-01-30
- 发明人: 苏磊 , 杨小飞 , 刘旭 , 李兴华
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京清亦华知识产权代理事务所
- 代理商 赵天月
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12 ; H01L27/02 ; H01L21/77 ; G02F1/1362
摘要:
本发明公开了制备阵列基板的方法、阵列基板、显示装置。该方法包括:在基板上设置多个阵列排布的薄膜晶体管;在所述基板上沉积第一透明电极层,对所述第一透明电极层进行第一构图工艺处理,以便形成多个与所述薄膜晶体管的漏极相连的第一电极,以及连接相邻的所述第一电极的连接电极;在所述第一透明电极层远离所述基板的一侧设置功能结构;以及对所述连接电极进行第二构图工艺处理,断开所述连接电极,以在所述第一电极边缘形成凸出的连接部。由此,可以利用简单的制备工艺,消除阵列基板在制备过程中由静电击穿造成的各种不良。
公开/授权文献
- CN107644879B 制备阵列基板的方法、阵列基板、显示装置 公开/授权日:2019-11-05
IPC分类: