发明公开
CN107706196A 一种阵列基板及其制备方法、显示装置
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种阵列基板及其制备方法、显示装置
- 专利标题(英): Array substrate and method of manufacturing the same, and display device
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申请号: CN201710897693.2申请日: 2017-09-28
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公开(公告)号: CN107706196A公开(公告)日: 2018-02-16
- 发明人: 周刚 , 孟佳 , 杨小飞 , 金香馥
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- 代理商 申健
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12
摘要:
本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,可改善因信号线被腐蚀而导致的显示不良的问题。所述阵列基板包括衬底,还包括依次设置在所述衬底上的信号线、导电保护图案、至少一层绝缘层和透明导电图案,所述导电保护图案设置在所述信号线的表面,所述至少一层绝缘层上设置有过孔,所述透明导电图案通过所述过孔与所述信号线接触;所述过孔在所述衬底上的正投影落入所述导电保护图案在所述衬底上的正投影内,所述导电保护图案在所述衬底上的正投影落入所述信号线在所述衬底上的正投影内。
公开/授权文献
- CN107706196B 一种阵列基板及其制备方法、显示装置 公开/授权日:2021-05-25
IPC分类: