Invention Publication
CN107923063A 从熔体形成结晶片的装置
无效 - 撤回
- Patent Title: 从熔体形成结晶片的装置
- Patent Title (English): Apparatus for forming crystalline sheet from a melt
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Application No.: CN201680048202.0Application Date: 2016-08-09
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Publication No.: CN107923063APublication Date: 2018-04-17
- Inventor: 孙大伟 , 彼德·L·凯勒曼 , 葛列格里·斯罗森
- Applicant: 瓦里安半导体设备公司
- Applicant Address: 美国麻萨诸塞州格洛斯特郡都利路35号
- Assignee: 瓦里安半导体设备公司
- Current Assignee: 瓦里安半导体设备公司
- Current Assignee Address: 美国麻萨诸塞州格洛斯特郡都利路35号
- Agency: 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- Agent 马爽; 臧建明
- Priority: 14/830,140 2015.08.19 US
- International Application: PCT/US2016/046141 2016.08.09
- International Announcement: WO2017/030833 EN 2017.02.23
- Date entered country: 2018-02-13
- Main IPC: C30B11/00
- IPC: C30B11/00 ; C30B11/04 ; C30B29/20

Abstract:
一种从熔体拉制结晶片的装置。所述装置可包括:坩埚,用以容纳所述熔体并具有挡坝结构,其中所述熔体包括暴露表面,所述暴露表面具有由所述挡坝结构的顶部界定的水平高度。所述装置可进一步包括支撑装置,所述支撑装置安置于所述坩埚内并具有上表面,其中当在所述支撑装置之上拉制所述结晶片时,所述结晶片保持与所述熔体的所述暴露表面齐平,且所述装置可包括回熔加热器,所述回熔加热器经由所述支撑装置的所述上表面引导热量,以在所述支撑装置之上拉制所述结晶片时使所述结晶片部分地熔融。
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