- 专利标题: 阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置
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申请号: CN201711322180.5申请日: 2017-12-12
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公开(公告)号: CN107946321B公开(公告)日: 2022-06-28
- 发明人: 林奕呈 , 盖翠丽 , 张保侠 , 王玲 , 徐攀
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京润泽恒知识产权代理有限公司
- 代理商 莎日娜
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12 ; H01L23/552 ; H01L27/32 ; H01L21/77
摘要:
本发明公开一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置,所述阵列基板包括层叠设置在基底上的遮光层和有源层,所述遮光层位于靠近所述基底的一侧,所述遮光层在所述基底上的正投影覆盖所述有源层在所述基底上的正投影;所述遮光层为黑色有机物材料。本发明实施例的阵列基板,在基底上设置有遮光层和有源层,遮光层设置在靠近基底的一侧,且遮光层在基底上的正投影覆盖有源层在基底上的正投影,使遮光层可以完全遮挡有源层,防止光照对有源层产生影响,且本发明实施例的遮光层采用黑色有机物材料,不导电,可以直接设置在基底上,并在其上方形成阵列基板的其他结构,不用增加过孔和换层而多占布局空间,工艺简单,遮光效果好,且易于实现高PPI。
公开/授权文献
- CN107946321A 阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置 公开/授权日:2018-04-20
IPC分类: