基于金-氧化亚铜纳米线网状结构等离激元FET及制备方法
Abstract:
本发明提供基于金-氧化亚铜纳米线网状结构等离激元FET及制备方法。包括以下步骤:制作氧化亚铜纳米线;将表面活性剂和弱还原剂溶解到蒸馏水中,加热,并保持恒温,再将氧化亚铜纳米线倒入溶液中,搅拌,得到混合溶液;调节四氯金酸溶液PH值到弱碱性,将的四氯金酸溶液缓慢加入混合溶液中,形成Au-Cu2O纳米复合结构;将Au-Cu2O纳米复合结构溶于水与表面张力小的溶剂混合液中,得到Au-Cu2O纳米复合结构溶液;将Au-Cu2O纳米复合结构溶液均匀的铺到FET衬底上,形成纳米线网状结构,低温自然晾干;低温热退火,确保纳米复合结构与衬底上的金线欧姆接触,制作出具有Au-Cu2O纳米线网状结构的FET。本发明制作方法具有简单,快速,成本低廉等特点,比传统FET更加灵敏,探测范围也更广。
IPC分类:
H 电学
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件(使用半导体器件的测量入G01;一般电阻器入H01C;磁体、电感器、变压器入H01F;一般电容器入H01G;电解型器件入H01G9/00;电池组、蓄电池入H01M;波导管、谐振器或波导型线路入H01P;线路连接器、汇流器入H01R;受激发射器件入H01S;机电谐振器入H03H;扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R;一般电光源入H05B;印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K;在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类)
H01L29/00 专门适用于整流、放大、振荡或切换,并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的半导体器件;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒,例如PN结耗尽层或载流子集结层的电容器或电阻器;半导体本体或其电极的零部件(H01L31/00至H01L47/00,H01L51/05优先;除半导体或其电极之外的零部件入H01L23/00;由在一个共用衬底内或其上形成的多个固态组件组成的器件入H01L27/00)
H01L29/66 .按半导体器件的类型区分的
H01L29/68 ..只能通过对一个不通有待整流、放大或切换的电流的电极供给电流或施加电位方可进行控制的(H01L29/96优先)
H01L29/76 ...单极器件
H01L29/772 ....场效应晶体管
H01L29/78 .....由绝缘栅产生场效应的
Patent Agency Ranking
0/0