Invention Publication
CN108321205A 基于金-氧化亚铜纳米线网状结构等离激元FET及制备方法
失效 - 权利终止
- Patent Title: 基于金-氧化亚铜纳米线网状结构等离激元FET及制备方法
- Patent Title (English): Plasmon FET based on gold-copper oxide nanowire network structure and preparation method
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Application No.: CN201810059011.5Application Date: 2018-01-22
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Publication No.: CN108321205APublication Date: 2018-07-24
- Inventor: 朱亚太 , 赵新宏 , 吕柳 , 段永胜 , 刘永旺 , 李凯
- Applicant: 江苏大学
- Applicant Address: 江苏省镇江市京口区学府路301号
- Assignee: 江苏大学
- Current Assignee: 江苏大学
- Current Assignee Address: 江苏省镇江市京口区学府路301号
- Main IPC: H01L29/78
- IPC: H01L29/78 ; B82Y40/00 ; C01G3/02 ; H01L21/336

Abstract:
本发明提供基于金-氧化亚铜纳米线网状结构等离激元FET及制备方法。包括以下步骤:制作氧化亚铜纳米线;将表面活性剂和弱还原剂溶解到蒸馏水中,加热,并保持恒温,再将氧化亚铜纳米线倒入溶液中,搅拌,得到混合溶液;调节四氯金酸溶液PH值到弱碱性,将的四氯金酸溶液缓慢加入混合溶液中,形成Au-Cu2O纳米复合结构;将Au-Cu2O纳米复合结构溶于水与表面张力小的溶剂混合液中,得到Au-Cu2O纳米复合结构溶液;将Au-Cu2O纳米复合结构溶液均匀的铺到FET衬底上,形成纳米线网状结构,低温自然晾干;低温热退火,确保纳米复合结构与衬底上的金线欧姆接触,制作出具有Au-Cu2O纳米线网状结构的FET。本发明制作方法具有简单,快速,成本低廉等特点,比传统FET更加灵敏,探测范围也更广。
Public/Granted literature
- CN108321205B 基于金-氧化亚铜纳米线网状结构等离激元FET及制备方法 Public/Granted day:2019-12-03
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