发明公开
CN108322984A 聚焦冷等离子体处理3D物体的装置及方法
无效 - 驳回
- 专利标题: 聚焦冷等离子体处理3D物体的装置及方法
- 专利标题(英): Device and method for focusing cold plasma to process 3D object
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申请号: CN201810085228.3申请日: 2018-01-29
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公开(公告)号: CN108322984A公开(公告)日: 2018-07-24
- 发明人: 邵涛 , 王瑞雪 , 徐晖 , 章程 , 严萍
- 申请人: 中国科学院电工研究所
- 申请人地址: 北京市海淀区中关村北二条6号
- 专利权人: 中国科学院电工研究所
- 当前专利权人: 中国科学院电工研究所
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区中关村北二条6号
- 代理机构: 北京君泊知识产权代理有限公司
- 代理商 王程远; 胡玉章
- 主分类号: H05H1/24
- IPC分类号: H05H1/24
摘要:
本发明公开了一种聚焦冷等离子体处理3D物体的装置,该装置包括:射流支架为横截面为正多边形的柱体,且在其厚度方向的中心位置处设有竖直通孔;介质阻挡管设有若干个,且每个介质阻挡管的一端穿过其对应的射流支架的侧面伸入射流支架的竖直通孔中;钨电极固定于介质阻挡管的中轴线处,且数量与介质阻挡管的数量相同;支撑轴竖直设于射流阵列的一侧;移动机械臂一端与支撑轴移动连接,移动机械臂另一端与样品紧固件连接;样品紧固件下端设有绝缘夹持结构用于夹持待处理样品;气路室、线路室,其二者均匀横截面为正多边形的中空柱体,气路室设于线路室的上端,且射流支架嵌套在气路室中。
IPC分类: