发明公开
CN108508711A 一种正性光刻胶的去除方法
无效 - 驳回
- 专利标题： 一种正性光刻胶的去除方法
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申请号： CN201710113991.8申请日： 2017-02-28
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公开(公告)号： CN108508711A公开(公告)日： 2018-09-07
- 发明人: 王建华 , 王晓萌 , 李晓明 , 刘琦 , 闫宝华 , 汤福国
- 申请人： 山东浪潮华光光电子股份有限公司
- 申请人地址： 山东省潍坊市高新区金马路9号
- 专利权人： 山东浪潮华光光电子股份有限公司
- 当前专利权人： 山东浪潮华光光电子股份有限公司
- 当前专利权人地址： 山东省潍坊市高新区金马路9号
- 代理机构： 济南金迪知识产权代理有限公司
- 代理商 陈桂玲
- 主分类号： G03F7/42
- IPC分类号： G03F7/42
摘要：
本发明涉及一种正性光刻胶的去除方法。该方法包括，将形成光刻有效电极图形后的LED晶片在无掩膜遮挡的情况下用紫外光曝光，将曝光完全的LED晶片置于显影液中，在超声条件下进行显影，通过超声震荡与曝光显影结合去除晶片表面残留的正性光刻胶。本发明能容易地彻底去除LED晶片上的正性光刻胶，同时LED基板材料损伤小，弱碱性显影液可以重复利用多次，保护环境同时降低了材料的消耗。
IPC分类:
