发明公开
- 专利标题： 识别气态分子污染源的方法
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申请号： CN201810163704.9申请日： 2013-01-24
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公开(公告)号： CN108548892A公开(公告)日： 2018-09-18
- 发明人: 庄子寿 , 黄正吉 , 周政隆 , 杨棋铭 , 林进祥
- 申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址： 中国台湾新竹
- 专利权人： 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人： 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址： 中国台湾新竹
- 代理机构： 北京德恒律治知识产权代理有限公司
- 代理商 章社杲; 李伟
- 优先权： 13/632,530 2012.10.01 US
- 主分类号： G01N33/00
- IPC分类号： G01N33/00
摘要：
本发明提供了一种识别车间中的气态分子污染(AMC)泄露源的方法。该方法包括在车间中分布传感器，进行车间中的正向气流的计算流体动力学(CFD)仿真，设定车间中的正向气流的CFD仿真的反演模型，利用车间中的AMC测量数据建立传感器的空间响应概率分布矩阵的数据库，以及利用传感器的空间响应概率分布矩阵的数据库识别AMC泄露源。
