发明公开
- 专利标题: 高频发生器和等离子体处理装置
- 专利标题(英): High frequency generator and plasma processing apparatus
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申请号: CN201810185127.3申请日: 2018-03-07
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公开(公告)号: CN108573848A公开(公告)日: 2018-09-25
- 发明人: 芦田光利
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 北京尚诚知识产权代理有限公司
- 代理商 龙淳
- 优先权: 2017-044180 2017.03.08 JP
- 主分类号: H01J37/32
- IPC分类号: H01J37/32
摘要:
本发明提供了一种输出的高频的功率和相位的控制的精度高的高频发生器。在一个实施方式的高频发生器中,通过由矢量乘法器进行的IQ调制和由放大器进行的放大而生成的高频被输出部输出。定向耦合器输出包含行波的一部分的第一高频和包含反射波的一部分的第二高频。控制部通过包含4个多项式的运算的第一矩阵运算,来求取输出部的行波的同相成分和正交成分以及反射波的同相成分和正交成分的各自的推算值,其中,4个多项式的每一个包括第一高频的同相成分和正交成分以及第二高频的同相成分和正交成分作为多个变量。控制部基于这些的推算值,决定用于矢量乘法器的IQ调制的同相信号的电平和正交信号的电平。
公开/授权文献
- CN108573848B 高频发生器和等离子体处理装置 公开/授权日:2020-04-07