发明公开
CN108659250A 一种硫掺杂还原氧化石墨烯复合薄膜的制备方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种硫掺杂还原氧化石墨烯复合薄膜的制备方法
- 专利标题(英): Preparation method of sulfur-doped reduced graphene oxide composite film
-
申请号: CN201810283036.3申请日: 2018-04-02
-
公开(公告)号: CN108659250A公开(公告)日: 2018-10-16
- 发明人: 郭新立 , 金开 , 张伟杰 , 王艺璇 , 陈忠涛 , 刘园园 , 刘闯 , 殷亮亮 , 郑燕梅
- 申请人: 东南大学
- 申请人地址: 江苏省南京市栖霞区西岗办事处摄山星城齐民东路8号
- 专利权人: 东南大学
- 当前专利权人: 东南大学
- 当前专利权人地址: 江苏省南京市栖霞区西岗办事处摄山星城齐民东路8号
- 代理机构: 南京苏高专利商标事务所
- 代理商 柏尚春
- 主分类号: C08J7/12
- IPC分类号: C08J7/12 ; C08J5/18 ; C08L79/02 ; C08K3/04 ; C08K5/405 ; C08G73/02
摘要:
本发明提供一种利用化学合成结合水热处理,在无其他改性剂的条件下,合成了聚苯胺纳米纤维和还原氧化石墨烯复合薄膜的方法。主要包括以下工艺步骤:步骤一.制备均一稳定的氧化石墨烯悬浮液;步骤二.一定反应条件下在氧化石墨烯的悬浮液中原位聚合聚苯胺纳米纤维;步骤三.利用真空抽滤制备成膜;步骤四.进行水热处理。通过优化实验条件,制备得到了一种柔性、稳定、电化学性能好的复合薄膜,在能源领域以及其它电子器件领域有着广阔的应用前景。
公开/授权文献
- CN108659250B 一种硫掺杂还原氧化石墨烯复合薄膜的制备方法 公开/授权日:2020-10-02