发明授权
- 专利标题： 基板处理装置以及基板处理方法
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申请号： CN201810390875.5申请日： 2018-04-27
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公开(公告)号： CN108807223B公开(公告)日： 2022-03-01
- 发明人: 中村一树 , 田中克典 , 野野村正浩
- 申请人： 株式会社斯库林集团
- 申请人地址： 日本京都府
- 专利权人： 株式会社斯库林集团
- 当前专利权人： 株式会社斯库林集团
- 当前专利权人地址： 日本京都府
- 代理机构： 隆天知识产权代理有限公司
- 代理商 向勇
- 优先权： 2017-088214 20170427 JP
- 主分类号： H01L21/67
- IPC分类号： H01L21/67 ; H01L21/687
摘要：
本发明提供一种基板处理装置。该基板处理装置具有控制单元，在利用处理部对基板的上表面进行处理的上表面处理时，上述控制单元一边操作旋转驱动部，使基板以第一转速旋转，一边从处理液供给部供给处理液，并操作第一控制阀从气体喷嘴以第一流量供给气体，在上表面处理结束后，上述控制单元在使旋转驱动部的转速提升，来使基板以第二转速旋转，来对基板进行干燥的干燥处理时，操作第一控制阀和第二控制阀，来从气体喷嘴以大于第一流量的流量供给气体。
公开/授权文献
- CN108807223A 基板处理装置以及基板处理方法 公开/授权日：2018-11-13
IPC分类:
