公开(公告)号：CN120072737A

公开(公告)日：2025-05-30

申请号：CN202411712281.3

申请日：2024-11-27

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 髙山祐一 ,  河原启之 ,  佐藤卓也

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/67 ,  B25J9/00 ,  B25J13/08 ,  B25J19/02

Abstract: 本发明涉及一种衬底搬送机器人及具备衬底搬送机器人的衬底处理装置。衬底搬送机器人具备手及机器人控制部。手具备：设置在手主体的上表面且支承衬底的外缘部的4个导件(具有配置在手主体的前端侧的导件)、配置在手主体的基端侧的推杆、使推杆水平移动的推杆移动部、以及测量载置在手上的衬底的重量的重量传感器部。导件与推杆在水平方向上夹住4个导件上的水平姿势的衬底，从而夹持衬底。机器人控制部通过根据由重量传感器部测量出的重量来控制推杆移动部，而改变夹持4个导件上的衬底的夹持力。

公开(公告)号：CN120072697A

公开(公告)日：2025-05-30

申请号：CN202411715250.3

申请日：2024-11-27

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高山祐一 ,  河原启之 ,  佐藤卓也

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/66 ,  H01L21/677

Abstract: 本申请提供一种基板处理装置。基板处理装置的控制部为了从多个架部(11)中的一个架部(11)取出基板(W)，使未支承基板(W)的手部(13)进入载体内，一边监视来自触觉传感器(19A)的输出一边在载体内使手部(13)上升，在触觉传感器(19A)检测到与基板(W)的接触时，基于预先设定的上侧移动量(UW)使手部(13)从检测到接触的接触高度位置(CNP)上升，在从接触高度位置(CNP)以上侧移动量(UW)上升后的上升位置(DUP)，使支承基板(W)的手部(13)从载体内退出。

公开(公告)号：CN120072695A

公开(公告)日：2025-05-30

申请号：CN202411710589.4

申请日：2024-11-27

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 髙山祐一 ,  河原启之 ,  佐藤卓也

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明提供一种衬底处理装置，其能效率良好地处理衬底。本发明是一种衬底处理装置，具备：处理单元，处理衬底；及控制部，控制所述处理单元；且所述处理单元具备：板，具有上表面；旋转驱动部，使所述板旋转；支撑部，从所述板的所述上表面向上方突出，与衬底的下表面及衬底的端缘的至少任一个接触，在比所述板的所述上表面高的位置支撑衬底；气体吹出口，形成于所述板的所述上表面，向上方吹出气体；吹出调整部，调整所述气体吹出口吹出的气体的流量；及检测部，在与伯努利原理相应的吸引力作用于由所述支撑部支撑的衬底时，检测从所述衬底受到的力；所述控制部基于由所述检测部检测出的从所述衬底受到的力的信息，控制所述处理单元。

公开(公告)号：CN113366615B

公开(公告)日：2025-05-02

申请号：CN202080010595.2

申请日：2020-01-24

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 塙洋祐

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明提供一种能以简易的构成降低蚀刻不良的产生率的技术。本发明的基板处理方法具备基板保持工序、带电工序、及蚀刻液供给工序。在基板保持工序中，通过基板保持部保持基板。在带电工序中，使基板绕通过该基板的中央部的旋转轴线旋转，将纯水与添加气体以能使该基板的第1主面的整面带正电的第1混合浓度混合所得的第1混合液供给至该基板，以使该基板带电。在蚀刻液供给工序中，在带电工序之后或与带电工序并行，使该基板绕旋转轴线旋转，对该基板的第1主面供给蚀刻液。

公开(公告)号：CN119895554A

公开(公告)日：2025-04-25

申请号：CN202380066863.6

申请日：2023-06-07

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 前川直嗣

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，重新检视具备批次式模块以及单片式模块的装置的构成，借此改善处理量。在本发明的处理区块(9)的单片处理的单片处理区域(R2)设置有缓冲部(31)，缓冲部(31)能够供第一搬运机构(HTR)以及中心机械手(CR)双方接取并传递基板(W)。因此，第一搬运机构(HTR)经由缓冲部(31)一并地接取并传递处理完毕的基板(W)以及未处理的基板(W)。因此，能激发出第一搬运机构(HTR)的潜力，从而能提供处理量高的基板处理装置(1)。

公开(公告)号：CN119895533A

公开(公告)日：2025-04-25

申请号：CN202380066690.8

申请日：2023-09-14

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 山本慎司 ,  窟口博司

IPC: H01L21/02 ,  G06N3/08

Abstract: 本发明提供一种能够抑制源动力的使用量的基板处理系统。基板处理系统(1000)包含基板处理装置(200)、及控制装置(300)。控制装置(300)建立基板处理装置(200)的动作的排程(SK)。控制装置(300)包含存储部(303)、及控制部(304)。存储部(303)存储用于建立源动力的使用量互不相同的复数个排程(SK)的复数个已学习模型。控制部(304)可基于复数个已学习模型而建立复数个排程(SK)。复数个已学习模型分别基于学习时输入数据执行强化学习而被建构。学习时输入数据包含片数信息、制程条件信息、及源动力信息(RS)。源动力信息(RS)表示在基板处理装置(200)的动作的步骤中所含的各移动中使用的源动力的使用量。

公开(公告)号：CN119890110A

公开(公告)日：2025-04-25

申请号：CN202510026909.2

申请日：2019-12-25

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 高山祐一 ,  桥本光治 ,  菊本宪幸

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种能够实现处理单元的增设且容易进行搬运机械手的维护的技术。第1处理模块(3A)具有处理单元(SP1～SP6)及第1交接部(PS1)。分度盘部分(2)配置在第1处理模块的‑X侧，向第1交接部(PS1)供给基板(W)。搬运模块(3T)配置在第1处理模块的+X侧，具有从第1交接部沿+X方向搬出基板并向处理单元搬入的第1搬运机械手(CR1)。搬运模块具有维护室(302T)。在维护室内设有设置第1搬运机械手的基台部(41)的第1底板部(FL1)和在第1底板部的+Y侧配置的第2底板部(FL2)。相比于第2底板部而在+Y侧设有使维护室的内侧与外部连通的出入口部(303T)。

公开(公告)号：CN119856272A

公开(公告)日：2025-04-18

申请号：CN202380065175.8

申请日：2023-07-25

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 光吉一郎

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/304

Abstract: 基板处理装置1具有移载区块5、处理区块7以及缓冲部33。移载区块5具有：一并搬运机构HTR，将基板W容纳于承载器C；以及第一姿势转换机构15，将基板W转换成铅垂姿势。处理区块7具有批量处理区域R1、单片处理区域R3、单片基板搬运区域R2以及批量基板搬运区域R4。在批量处理区域R1设置有：批量处理槽BT1至BT6；以及第二姿势转换机构31，将基板W转换成水平姿势。在单片处理区域R3设置有例如单片处理腔室SW1。在单片基板搬运区域R2设置有中心机械手CR。在批量基板搬运区域R4设置有第一搬运机构WTR1。一并搬运机构HTR将基板W搬运至第一姿势转换机构15，并从缓冲部33搬运基板W。

公开(公告)号：CN119856255A

公开(公告)日：2025-04-18

申请号：CN202380063625.X

申请日：2023-07-24

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 远藤亨 ,  青木陆太

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/306

Abstract: 基板处理装置(100)具有：基板保持部(20)，保持基板(W)并使基板(W)旋转；以及混合液供给部(50)，向通过基板保持部(20)旋转的基板(W)供给混合了硫酸以及双氧水的硫酸双氧水混合液。混合液供给部(50)在第一期间中以第一流量向基板供给硫酸双氧水混合液，在第一期间之后的第二期间中以比第一流量小的第二流量向基板供给硫酸双氧水混合液。在第二期间中硫酸双氧水混合液的硫酸的比例比在第一期间中硫酸双氧水混合液的硫酸的比例小。

公开(公告)号：CN119852212A

公开(公告)日：2025-04-18

申请号：CN202510072038.8

申请日：2021-02-26

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 泽岛隼 ,  山口贵大 ,  宫川纱希 ,  小林健司

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够适当地排出处理壳体的气体的衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理壳体(23A1)、保持部(31)及液体供给部(33)。保持部(31)收容在处理壳体(23A1)中。保持部(31)保持衬底(W)。液体供给部(33)收容在处理壳体(23A1)中。液体供给部(33)对保持部(31)所保持的衬底(W)供给处理液。衬底处理装置(1)具备排气管(41A)、(42A)。排气管(41A)、(42A)分别配置在处理壳体(23A1)侧方。排气管(41A)、(42A)分别排出气体。衬底处理装置(1)具备切换机构(51A1)。切换机构(5lAl)配置在与处理壳体(23A1)相同的高度位置。切换机构(5lAl)将处理壳体(23A1)的排气通路切换为排气管(41A)、(42A)中的一个。