公开(公告)号：CN118248588A

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN202311791285.0

申请日：2023-12-22

申请人： 株式会社斯库林集团

发明人： 冈田吉文 ,  冲田展彬 ,  中村一树

IPC分类号： H01L21/67 ,  B08B1/52 ,  B08B1/12 ,  B08B1/34 ,  H01L21/687 ,  H01L21/02

摘要： 本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。本发明是利用上侧保持装置保持衬底的外周端部，使用下表面刷将该衬底的下表面中央区域洗净。在将衬底的下表面中央区域洗净后，衬底从上侧保持装置下降，被交递到下侧保持装置的吸附保持部。使用处理液将由吸附保持部保持的衬底洗净。俯视下包围衬底的护罩设置成能够在能接住处理液的上护罩位置、与比上护罩位置更靠下方的下护罩位置之间进行升降。护罩在待机时处于下护罩位置。以衬底从上侧保持装置的高度位置移动到下侧保持装置的高度位置的衬底下降动作期间与从下护罩位置上升到上护罩位置的护罩上升动作期间至少一部分重叠的方式，开始各动作。

公开(公告)号：CN118248585A

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN202311778272.X

申请日：2023-12-22

申请人： 株式会社斯库林集团

发明人： 中村一树 ,  冈田吉文 ,  冲田展彬

IPC分类号： H01L21/67 ,  B08B1/52 ,  B08B1/12 ,  B08B1/34 ,  H01L21/02

摘要： 本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理装置具备多个衬底洗净装置及主机械手。主机械手构成为能够针对各衬底洗净装置搬入及搬出衬底。衬底洗净装置具有处理室。在该处理室内，设置着使刷与衬底的下表面接触而将该衬底的下表面洗净的刷洗净部。另外，衬底洗净装置具有向刷喷出刷洗净液的洗净喷嘴。在利用主机械手针对衬底洗净装置的衬底进行搬入动作及搬出动作期间，停止向洗净喷嘴供给刷洗净液。

公开(公告)号：CN115513093A

公开(公告)日：2022-12-23

申请号：CN202210719627.7

申请日：2022-06-23

申请人： 株式会社斯库林集团

发明人： 筱原智之 ,  中村一树 ,  冈田吉文 ,  髙桥拓马 ,  筱原敬 ,  冲田展彬 ,  石井淳一

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/687

摘要： 本发明涉及一种衬底洗净装置及衬底洗净方法。通过一边使洗净器具接触由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域，一边使洗净器具绕中心轴旋转，而将下表面中央区域洗净。使洗净器具接触通过第2保持部而旋转的衬底的下表面外侧区域，由此将下表面外侧区域洗净。以如下方式使设置着第2保持部及洗净器具的可动基座在水平面内移动，即，当在第1保持部与第2保持部之间交接衬底时，俯视下第1保持部的基准位置与第2保持部的中心轴一致，在对下表面中央区域进行洗净时，俯视下洗净器具与由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域重叠，且洗净器具的中心轴和衬底的与中心不同的第1部分一致。

公开(公告)号：CN108807223A

公开(公告)日：2018-11-13

申请号：CN201810390875.5

申请日：2018-04-27

申请人： 株式会社斯库林集团

发明人： 中村一树 ,  田中克典 ,  野野村正浩

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/687

CPC分类号： H01L21/67051 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68792 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/687

摘要： 本发明提供一种基板处理装置。该基板处理装置具有控制单元，在利用处理部对基板的上表面进行处理的上表面处理时，上述控制单元一边操作旋转驱动部，使基板以第一转速旋转，一边从处理液供给部供给处理液，并操作第一控制阀从气体喷嘴以第一流量供给气体，在上表面处理结束后，上述控制单元在使旋转驱动部的转速提升，来使基板以第二转速旋转，来对基板进行干燥的干燥处理时，操作第一控制阀和第二控制阀，来从气体喷嘴以大于第一流量的流量供给气体。

公开(公告)号：CN107851573A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201680044966.2

申请日：2016-04-21

申请人： 株式会社斯库林集团

发明人： 中村一树

IPC分类号： H01L21/304

CPC分类号： H01L21/02087 ,  B08B1/04 ,  H01L21/304 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68764

摘要： 使刷子一边与以第一旋转速度旋转的基板的上表面接触，一边从中央位置移动至外周位置。由此，基板的平坦区域被刷洗洗净。之后，使刷子与以比第一旋转速度小的第二旋转速度旋转的基板的斜面区域接触。由此，基板的斜面区域被刷洗洗净。之后，一边使基板以比第二旋转速度大的第三旋转速度旋转，一边将刷子配置于重复区域洗净位置。由此，平坦区域以及斜面区域的重复区域被刷洗洗净。

公开(公告)号：CN118248584A

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN202311771905.4

申请日：2023-12-21

申请人： 株式会社斯库林集团

发明人： 冲田展彬 ,  中村一树 ,  冈田吉文

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  B08B1/12

摘要： 基板清洗装置包含下表面刷、支承部件、第1致动器及载荷检测部。下表面刷对基板的下表面进行清洗。支承部件支承下表面刷。第1致动器通过使支承部件升降而对从下表面刷向基板的载荷进行调整。载荷检测部设置在支承部件与第1致动器之间，检测支承部件与第1致动器之间的载荷。或者，基板清洗装置取代载荷检测部而包含其他载荷检测部，其设置在下表面刷的刷主体与刷底座之间，检测刷主体与刷底座之间的二维载荷的分布。

公开(公告)号：CN117642846A

公开(公告)日：2024-03-01

申请号：CN202280049929.6

申请日：2022-06-30

申请人： 株式会社斯库林集团

发明人： 高桥拓马 ,  筱原智之 ,  石井淳一 ,  中村一树 ,  筱原敬 ,  冲田展彬 ,  冈田吉文

IPC分类号： H01L21/304

摘要： 本发明的基板清洗装置具备基板保持部、下表面刷、第1液体喷嘴及第2液体喷嘴。基板保持部以水平姿势保持基板。下表面刷构成为能够在用于清洗基板的处理位置与在上下方向上重叠于由基板保持部保持的基板的待机位置之间移动。另外，下表面刷构成为能够绕上下方向的轴旋转。下表面刷在处理位置与基板的下表面接触，由此清洗基板的下表面。第1液体喷嘴在待机位置，对下表面刷的中央部喷出清洗液。第2液体喷嘴在待机位置，对下表面刷的端部喷出清洗液。

公开(公告)号：CN115472528A

公开(公告)日：2022-12-13

申请号：CN202210659024.2

申请日：2022-06-10

申请人： 株式会社斯库林集团

发明人： 筱原智之 ,  冈田吉文 ,  冲田展彬 ,  筱原敬 ,  石井淳一 ,  中村一树 ,  髙桥拓马

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/687

摘要： 本发明的衬底清洗装置包含衬底保持部、第1清洗件、第2清洗件及第3清洗件。衬底保持部以水平姿势保持圆形状的衬底。第1清洗件在俯视时，以通过衬底外缘的第1点的方式在衬底的上方进行扫描，由此清洗衬底的上表面。第2清洗件在俯视时，通过接触于衬底外缘的第2点来清洗衬底的外周端部。定义通过第1点与第2点的假想性第1直线、及通过衬底的中心且与第1直线平行的假想性第2直线。第3清洗件配置在衬底的下方且隔着第2直线而与第1清洗件及第2清洗件相反的区域，清洗衬底的下表面。

公开(公告)号：CN108807223B

公开(公告)日：2022-03-01

申请号：CN201810390875.5

申请日：2018-04-27

申请人： 株式会社斯库林集团

发明人： 中村一树 ,  田中克典 ,  野野村正浩

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/687

摘要： 本发明提供一种基板处理装置。该基板处理装置具有控制单元，在利用处理部对基板的上表面进行处理的上表面处理时，上述控制单元一边操作旋转驱动部，使基板以第一转速旋转，一边从处理液供给部供给处理液，并操作第一控制阀从气体喷嘴以第一流量供给气体，在上表面处理结束后，上述控制单元在使旋转驱动部的转速提升，来使基板以第二转速旋转，来对基板进行干燥的干燥处理时，操作第一控制阀和第二控制阀，来从气体喷嘴以大于第一流量的流量供给气体。

公开(公告)号：CN118020144A

公开(公告)日：2024-05-10

申请号：CN202280063180.0

申请日：2022-07-25

申请人： 株式会社斯库林集团

发明人： 高桥拓马 ,  村元僚 ,  中村一树 ,  千叶一树

IPC分类号： H01L21/304 ,  H01L21/677

摘要： 本发明的基板清洗装置具备：基板保持部，其保持基板的外周端部；处理部，其处理基板的表面或背面；以及保持控制部，其在通过处理部处理基板的期间控制基板保持部，以使基板的中心部分向上方或下方位移。