发明公开
- 专利标题： 金属线及金属线栅的制备方法以及线栅偏振片、电子装置
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申请号： CN201810759614.6申请日： 2018-07-11
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公开(公告)号： CN108919407A公开(公告)日： 2018-11-30
- 发明人: 董水浪 , 谷新 , 郭康 , 路达 , 刘清召 , 赵磊
- 申请人： 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人： 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人： 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 彭久云
- 主分类号： G02B5/30
- IPC分类号： G02B5/30
摘要：
一种金属线的制备方法、金属线栅的制备方法以及线栅偏振片、电子装置。该金属线的制备方法包括：在衬底基板上形成金属材料层；采用包括刻蚀气体与涂层反应气体的复合气体对金属材料层进行刻蚀以形成金属线以及金属线的表面的保护涂层。采用该制备方法形成金属线时，金属线的表面在刻蚀过程中即可形成保护涂层，该保护涂层可以对金属线形成保护，例如可以使所形成的金属线的形貌更接近于目标形貌。
