- 专利标题: 基于改进型哈特曼掩模的波前传感器及检测方法
- 专利标题(英): Wavefront sensor based on modified Hartmann mask and detection method
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申请号: CN201810247425.0申请日: 2018-03-23
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公开(公告)号: CN108955905A公开(公告)日: 2018-12-07
- 发明人: 彭常哲 , 唐锋 , 王向朝 , 冯鹏 , 李鹏 , 严焱
- 申请人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
- 申请人地址: 上海市嘉定区清河路390号
- 专利权人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
- 当前专利权人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
- 当前专利权人地址: 上海市嘉定区清河路390号
- 代理机构: 上海恒慧知识产权代理事务所
- 代理商 张宁展
- 主分类号: G01J9/02
- IPC分类号: G01J9/02
摘要:
本发明涉及一种基于圆形透光区域改进型哈特曼掩模的波前传感器及检测方法。该波前传感器包括衍射元件、探测器,其中,衍射元件是由棋盘型相位光栅与透光区域为圆形的振幅光栅所组成的混合光栅,在用于四波前剪切干涉时,具有比目前广泛使用的改进型哈特曼掩模(Modified Hartmann Mask,MHM)更好的衍射频谱特性,即更高的±1级衍射效率,从而进一步降低差分波前提取过程中的系统误差,提升测量精度;通过适当选择振幅光栅的量化因子,可以在保证衍射效率的前提下简化光栅结构,降低元器件的加工难度。该装置可用于高精度波前检测领域。
公开/授权文献
- CN108955905B 基于改进型哈特曼掩模的波前传感器及检测方法 公开/授权日:2020-10-16