发明公开
- 专利标题: 曝光装置以及物品的制造方法
- 专利标题(英): Exposure apparatus and method of manufacturing article
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申请号: CN201810642012.2申请日: 2018-06-21
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公开(公告)号: CN109100920A公开(公告)日: 2018-12-28
- 发明人: 早川崇志 , 佐藤隆纪
- 申请人: 佳能株式会社
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 佳能株式会社
- 当前专利权人: 佳能株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 孙蕾
- 优先权: 2017-121561 2017.06.21 JP
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20
摘要:
本发明涉及曝光装置及物品的制造方法。提供曝光装置,具有:载置台,保持基板使该基板移动;控制部,控制载置台;第1测量部,在被载置台保持的基板的拍摄区域到达对拍摄区域曝光的曝光区域之前测量拍摄区域的高度方向的位置;第2测量部,先于第1测量部而测量拍摄区域的高度方向的位置,控制部通过用于根据由第2测量部测量拍摄区域的高度方向的位置而得的第1测量值来使基板在高度方向上移动的第1驱动、用于根据接着第1驱动而由第1测量部测量拍摄区域的高度方向的位置而得的第2测量值和第1测量值来使基板在高度方向上移动的第2驱动控制载置台,以使在拍摄区域到达曝光区域之前使被载置台保持的基板的高度方向的位置成为最终目标位置。
公开/授权文献
- CN109100920B 曝光装置以及物品的制造方法 公开/授权日:2021-07-09
IPC分类: