发明授权
- 专利标题: 光学元件和包括该光学元件的光学组件
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申请号: CN201780026114.5申请日: 2017-03-28
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公开(公告)号: CN109154680B公开(公告)日: 2021-09-14
- 发明人: C.格拉斯 , O.迪尔 , J.韦伯 , R.温特
- 申请人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 申请人地址: 德国上科亨
- 专利权人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 当前专利权人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 当前专利权人地址: 德国上科亨
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 邱军
- 优先权: 102016207307.9 20160428 DE
- 国际申请: PCT/EP2017/057277 2017.03.28
- 国际公布: WO2017/186439 DE 2017.11.02
- 进入国家日期: 2018-10-26
- 主分类号: G02B1/16
- IPC分类号: G02B1/16 ; G21K1/06 ; G02B5/08 ; G03F7/20
摘要:
本发明涉及一种光学元件(14),特别是EUV光刻的光学元件(14),其包括:基板(15)、施加到基板(15)上的反射涂层(16)和导电涂层(19),该导电涂层(19)在基板(15)和反射涂层(16)之间延伸并且具有拉张应力下的至少一个第一层(22a)和压缩应力下的至少一个第二层(22b)。该导电涂层(19)具有在基板(15)上横向延伸超出反射涂层(16)的至少一个段(20)。本发明还涉及光学组件、特别是EUV光刻系统,其包括这种类型的至少一个光学元件(14)。
公开/授权文献
- CN109154680A 光学元件和包括该光学元件的光学组件 公开/授权日:2019-01-04