根据本发明的实施例，提供一种光刻设备，其包括投射系统(PS)，该投射系统(PS)包括多个光学元件(505-535；605-640)，该多个光学元件(505-535；605-640)配置为将辐射束(B，26)投射到辐射敏感基板(W)上。光刻设备还包括计量框架结构(500；600)，其包括一个或多个光学元件测量系统的部件(540-570；660-695)以测量光学元件(505-535；605-640)中的至少一个的位置和/或取向。多个光学元件(505-535；605-640)、图案化装置台(MT)和基板台(WT)布置使得在投射系统(PS)上的二维视图中，矩形(ORE)限定为包封多个光学元件(505-535；605-640)、图案化装置台(MT)和基板台(WT)。矩形(ORE)还限定为尽可能小，其中计量框架结构(500；600)定位在矩形(ORE)内。