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公开(公告)号：CN104145205B
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201380011972.4
申请日：2013-01-23
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号： G03F7/706 , G01K11/00 , G01M11/0242 , G01M11/0271 , G03F7/70141 , G03F7/70258 , G03F7/7085 , G03F7/70891
摘要： 一种微光刻的投射曝光设备(10)，包括测量投射曝光设备的光学元件的测量系统(50)。测量系统(50)包括：照射装置(54)，其构造成在不同方向(64)上将测量辐射(62)辐射至光学元件(20)，使得对于不同入射方向(64)，测量辐射(62)覆盖光学元件(20)内的相应光路长度(68)；检测装置(56)，其构造成对于相应入射方向(64)测量光学元件(20)中由测量辐射(62)覆盖的对应光学路径长度；以及评估装置，其构造成考虑相应入射方向，通过所测量路径长度的计算机断层反向投射确定光学元件(20)中的折射率的空间解析分布。
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公开(公告)号：CN107111241B
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN201580068983.5
申请日：2015-12-16
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种投射曝光设备，包含投射镜头(12)；波前测量装置，其测量在该投射镜头(12)中的波前，该波前测量装置包含莫尔光栅布置(14)，其具有设计为分别布置于该投射镜头(12)的物平面(20)中的物光栅(16)与像平面(22)中的像光栅(18)，其中该物光栅(16)与该像光栅(18)以从该物光栅(16)到该像平面(22)上的成像(24)与该像光栅(18)产生莫尔叠加图案的方式以真实比例的方式彼此协调，其中该莫尔光栅布置(14)以针对该物平面(20)中物场(26)和/或该像平面(22)中像场(28)的多个场点同时产生莫尔叠加图案的方式设计。
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公开(公告)号：CN104145205A
公开(公告)日：2014-11-12
申请号：CN201380011972.4
申请日：2013-01-23
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号： G03F7/706 , G01K11/00 , G01M11/0242 , G01M11/0271 , G03F7/70141 , G03F7/70258 , G03F7/7085 , G03F7/70891
摘要： 一种微光刻的投射曝光设备(10)，包括测量投射曝光设备的光学元件的测量系统(50)。测量系统(50)包括：照射装置(54)，其构造成在不同方向(64)上将测量辐射(62)辐射至光学元件(20)，使得对于不同入射方向(64)，测量辐射(62)覆盖光学元件(20)内的相应光路长度(68)；检测装置(56)，其构造成对于相应入射方向(64)测量光学元件(20)中由测量辐射(62)覆盖的对应光学路径长度；以及评估装置，其构造成考虑相应入射方向，通过所测量路径长度的计算机断层反向投射确定光学元件(20)中的折射率的空间解析分布。
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公开(公告)号：CN109154783B
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN201780032606.5
申请日：2017-05-24
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人： E.洛普斯特拉 , E.A.F.范德帕施 , S.布雷迪斯特尔 , S.科西恩
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 根据本发明的实施例，提供一种光刻设备，其包括投射系统(PS)，该投射系统(PS)包括多个光学元件(505‑535；605‑640)，该多个光学元件(505‑535；605‑640)配置为将辐射束(B，26)投射到辐射敏感基板(W)上。光刻设备还包括计量框架结构(500；600)，其包括一个或多个光学元件测量系统的部件(540‑570；660‑695)以测量光学元件(505‑535；605‑640)中的至少一个的位置和/或取向。多个光学元件(505‑535；605‑640)、图案化装置台(MT)和基板台(WT)布置使得在投射系统(PS)上的二维视图中，矩形(ORE)限定为包封多个光学元件(505‑535；605‑640)、图案化装置台(MT)和基板台(WT)。矩形(ORE)还限定为尽可能小，其中计量框架结构(500；600)定位在矩形(ORE)内。
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公开(公告)号：CN103140805A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201180046828.5
申请日：2011-09-22
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号： G03F7/70133 , G03F7/70608 , G03F7/70733 , G03F9/7003 , G03F9/7034 , G03F9/7049
摘要： 一种用于曝光基板(20)的微光刻投射曝光设备(10)，包括：投射物镜(18)；及光学测量装置(40)，其用于在曝光基板(20)前，确定基板(20)的表面形貌。测量装置(40)具有在投射物镜(18)的外面延伸的测量光束路径，并构造为波前测量装置，该波前测量装置构造为在基板表面(21)上的多个点处同时确定形貌测量值。
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公开(公告)号：CN114236970A
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN202111432430.7
申请日：2017-05-24
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人： E.洛普斯特拉 , E.A.F.范德帕施 , S.布雷迪斯特尔 , S.科西恩
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 根据本发明的实施例，提供一种光刻设备，其包括投射系统，该投射系统包括多个光学元件，该多个光学元件配置为将辐射束投射到辐射敏感基板上。光刻设备还包括计量框架结构，其包括一个或多个光学元件测量系统的部件以测量光学元件中的至少一个的位置和/或取向。多个光学元件、图案化装置台和基板台布置使得在投射系统上的二维视图中，矩形限定为包封多个光学元件、图案化装置台和基板台。矩形还限定为尽可能小，其中计量框架结构定位在矩形内。
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公开(公告)号：CN109154783A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201780032606.5
申请日：2017-05-24
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人： E.洛普斯特拉 , E.A.F.范德帕施 , S.布雷迪斯特尔 , S.科西恩
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 根据本发明的实施例，提供一种光刻设备，其包括投射系统(PS)，该投射系统(PS)包括多个光学元件(505-535；605-640)，该多个光学元件(505-535；605-640)配置为将辐射束(B，26)投射到辐射敏感基板(W)上。光刻设备还包括计量框架结构(500；600)，其包括一个或多个光学元件测量系统的部件(540-570；660-695)以测量光学元件(505-535；605-640)中的至少一个的位置和/或取向。多个光学元件(505-535；605-640)、图案化装置台(MT)和基板台(WT)布置使得在投射系统(PS)上的二维视图中，矩形(ORE)限定为包封多个光学元件(505-535；605-640)、图案化装置台(MT)和基板台(WT)。矩形(ORE)还限定为尽可能小，其中计量框架结构(500；600)定位在矩形(ORE)内。
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公开(公告)号：CN107111241A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580068983.5
申请日：2015-12-16
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/706 , G03F7/70258 , G03F7/70266
摘要： 一种投射曝光设备，包含投射镜头(12)；波前测量装置，其测量在该投射镜头(12)中的波前，该波前测量装置包含莫尔光栅布置(14)，其具有设计为分别布置于该投射镜头(12)的物平面(20)中的物光栅(16)与像平面(22)中的像光栅(18)，其中该物光栅(16)与该像光栅(18)以从该物光栅(16)到该像平面(22)上的成像(24)与该像光栅(18)产生莫尔叠加图案的方式以真实比例的方式彼此协调，其中该莫尔光栅布置(14)以针对该物平面(20)中物场(26)和/或该像平面(22)中像场(28)的多个场点同时产生莫尔叠加图案的方式设计。
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公开(公告)号：CN103140805B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201180046828.5
申请日：2011-09-22
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号： G03F7/70133 , G03F7/70608 , G03F7/70733 , G03F9/7003 , G03F9/7034 , G03F9/7049
摘要： 一种用于曝光基板(20)的微光刻投射曝光设备(10)，包括：投射物镜(18)；及光学测量装置(40)，其用于在曝光基板(20)前，确定基板(20)的表面形貌。测量装置(40)具有在投射物镜(18)的外面延伸的测量光束路径，并构造为波前测量装置，该波前测量装置构造为在基板表面(21)上的多个点处同时确定形貌测量值。
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