发明授权
- 专利标题: 一种在不透明基底上制备微结构的方法
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申请号: CN201811147993.X申请日: 2018-09-29
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公开(公告)号: CN109188869B公开(公告)日: 2020-08-28
- 发明人: 陶天骋 , 袁张瑾 , 金瑜洋 , 任玺谕 , 胡绪瑞 , 顾银炜 , 陶卫东 , 王刚
- 申请人: 宁波市效实中学 , 宁波大学
- 申请人地址: 浙江省宁波市鄞州区百丈东路1907号
- 专利权人: 宁波市效实中学,宁波大学
- 当前专利权人: 宁波市效实中学,宁波大学
- 当前专利权人地址: 浙江省宁波市鄞州区百丈东路1907号
- 代理机构: 宁波诚源专利事务所有限公司
- 代理商 徐雪波; 陈蕾
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20
摘要:
本发明涉及一种在不透明基底上制备微结构的方法,该方法引入螺旋塔图案,该螺旋塔图案为标示连续排列成的阵列,该阵列在水平面的投影中,由左向右横向排列n个标示后,朝上竖向排列n个标示,接着由右向左横向排列n个标示,然后向下竖向排列n‑1个标示…依次循环而构成回形图,各相邻标示在水平投影上的间距均为a,且各标示分别比按排列顺序位于其前面的标示竖向上升高度b,其中5≤n≤8,从而能在不同高度尝试刻写,进而找到合适的焦点起始位置,继而能实现在不透明基底上的准确光刻。本发明加工速度快,精度高,灵活性强,可在不透明基底上制备各种微结构,且制备过程简单易操作。
公开/授权文献
- CN109188869A 一种在不透明基底上制备微结构的方法 公开/授权日:2019-01-11
IPC分类: