Invention Grant
- Patent Title: 一种化学机械抛光液
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Application No.: CN201710569718.6Application Date: 2017-07-13
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Publication No.: CN109251671BPublication Date: 2021-09-17
- Inventor: 李守田 , 尹先升 , 贾长征 , 王雨春
- Applicant: 安集微电子科技(上海)股份有限公司
- Applicant Address: 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区(南区)T6-9幢底层
- Assignee: 安集微电子科技(上海)股份有限公司
- Current Assignee: 安集微电子科技(上海)股份有限公司
- Current Assignee Address: 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区(南区)T6-9幢底层
- Agency: 北京大成律师事务所
- Agent 李佳铭; 沈汶波
- Main IPC: C09G1/02
- IPC: C09G1/02
Abstract:
本发明提供一种化学机械抛光液，包括溶胶型氧化铈、含羟基的非离子型表面活性剂以及pH调节剂。本发明采用溶胶型氧化铈研磨颗粒与含有羟基的非离子型表面活性剂配合使用的技术方案，在一定pH条件下，实现在几乎不降低氧化硅的抛光速率的条件下，提高氧化硅对多晶硅的选择比。
Public/Granted literature
- CN109251671A 一种化学机械抛光液 Public/Granted day:2019-01-22
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