公开(公告)号：CN118270823A

公开(公告)日：2024-07-02

申请号：CN202211718700.5

申请日：2022-12-29

申请人： 安集微电子科技(上海)股份有限公司

发明人： 尹先升 ,  刘同君 ,  李节

IPC分类号： C01F17/235 ,  C01F17/10 ,  B82Y40/00 ,  C09G1/02

摘要： 本发明提供了一种氧化铈的合成方法，包括，S1：将可溶性铈盐与可溶性多价金属盐溶解混合，配置为第一水溶液，将所述第一水溶液加入至沉淀剂水溶液中，在密闭反应容器中混合剧烈搅拌；S2：升温至晶化温度，进行晶化合成反应；S3：分离固体，进行洗涤除盐，得到氧化铈产物。本发明的氧化铈合成方法通过选取合适的铈盐原料和多价金属盐原料，促使所合成氧化铈颗粒在结晶生长过程中，具有丰富的晶体缺陷组成和窄的颗粒粒径分布，所得氧化铈易于分散，具有良好的抛光应用特性。

公开(公告)号：CN109251677B

公开(公告)日：2021-08-13

申请号：CN201710570203.8

申请日：2017-07-13

申请人： 安集微电子科技(上海)股份有限公司

发明人： 李守田 ,  尹先升 ,  贾长征 ,  王雨春

IPC分类号： C09G1/02

摘要： 本发明提供了一种化学机械抛光液，包含氧化铈研磨颗粒、苯甲酸类化合物及pH调节剂。采用上述组分的抛光液，可以显著提高其对二氧化硅介质层的抛光速率，抑制氮化硅的抛光速率，提高二氧化硅对氮化硅的选择比，同时克服现有技术中抛光速率不均匀的问题。

公开(公告)号：CN109251676A

公开(公告)日：2019-01-22

申请号：CN201710570202.3

申请日：2017-07-13

申请人： 安集微电子科技(上海)股份有限公司

发明人： 李守田 ,  尹先升 ,  贾长征 ,  王雨春

IPC分类号： C09G1/02

CPC分类号： C09G1/02 ,  H01L21/3105

摘要： 本发明提供了一种化学机械抛光液，包含氧化铈磨料颗粒、聚季铵盐及pH调节剂。本发明中的聚季铵盐可控制氧化硅的抛光速率，使得在高压下达到高的氧化硅抛光速率，在低压下实现低的氧化硅的抛光速率，从而取得较低碟形凹陷(dishing)。

公开(公告)号：CN109251672A

公开(公告)日：2019-01-22

申请号：CN201710569719.0

申请日：2017-07-13

申请人： 安集微电子科技(上海)股份有限公司

发明人： 李守田 ,  尹先升 ,  贾长征 ,  王雨春

IPC分类号： C09G1/02

CPC分类号： C09G1/02

摘要： 本发明提供一种化学机械抛光液，包括溶胶型氧化铈、以及聚季铵盐。本发明采用溶胶型氧化铈作为研磨颗粒，同时添加聚季铵盐作为添加剂，在聚季铵盐作用下，实现抑制氮化硅的抛光速率、提高二氧化硅的抛光速率，同时控制蝶形凹陷的产生的技术效果。

公开(公告)号：CN108249468A

公开(公告)日：2018-07-06

申请号：CN201611231261.X

申请日：2016-12-28

申请人： 安集微电子科技(上海)股份有限公司

发明人： 尹先升 ,  贾长征

IPC分类号： C01F17/00 ,  C09G1/02

CPC分类号： C01F17/0043 ,  C09G1/02

摘要： 本发明提供了一种氧化铈晶体的制备方法，包含以下步骤：步骤一：分别于有机酸、铈盐和碳酸盐中加入超纯水溶解、稀释，得到有机酸溶液、铈源水溶液、碳酸盐水溶液；步骤二：将所述有机酸溶液和所述铈源水溶液混合搅拌，并在搅拌条件下，加入所述碳酸盐溶液，通过沉淀反应获得碳酸铈沉淀物；步骤三：收集所述碳酸铈沉淀物，高温焙烧，获得氧化铈晶体。所述制备方法操作简便，产物结晶度高。此外，根据所述制备方法制备的氧化铈晶体为研磨颗粒的化学机械抛光液，可在浅沟槽隔离抛光应用中，显示出优良的平坦化抛光效率。

公开(公告)号：CN113120942A

公开(公告)日：2021-07-16

申请号：CN201911402361.8

申请日：2019-12-30

申请人： 安集微电子科技(上海)股份有限公司

发明人： 尹先升 ,  刘同君 ,  王雨春

IPC分类号： C01F17/247 ,  C01F17/235 ,  C01F17/10

摘要： 本发明提供一种纺锤形碳酸铈的合成方法，包括，将铈源和沉淀剂分别溶于水中，制成铈源溶液和沉淀剂溶液；使用惰性气体分别对所述铈源溶液和所述沉淀剂溶液进行鼓泡处理；在惰性气体环境下将鼓泡处理后的铈源溶液添加至鼓泡处理后的沉淀剂溶液中混合，得到混合反应液；在惰性气体环境下搅拌所述混合反应液，混合反应液进行水热晶化，水热晶化结束后将所述混合反应液自然冷却至室温；过滤所述混合反应液，得到纺锥形碳酸铈。本发明通过控制反应条件制备出均匀的纺锤形碳酸铈，并进一步以所述纺锤形碳酸铈为前驱体，制备出形貌均匀的氧化铈，所得氧化铈经分散处理后可应用于CMP抛光，并显示出良好的CMP抛光特性。

公开(公告)号：CN106915761B

公开(公告)日：2021-04-30

申请号：CN201510999608.4

申请日：2015-12-28

申请人： 安集微电子科技(上海)股份有限公司

发明人： 尹先升 ,  贾长征

IPC分类号： C01F17/10 ,  C01F17/235 ,  C09G1/02

摘要： 本发明公开了一种氧化铈的制备方法及其在STI化学机械抛光中的应用，包括以下步骤：首先通过沉淀制备低晶态碳酸铈前驱体，进一步将低晶态碳酸铈前驱体转入高温水热条件下晶化得到晶态碳酸铈，进一步高温焙烧所制备碱式碳酸铈得到氧化铈粉体。在机械力作用下，该方法制得的氧化铈颗粒易分散于液相中。以该分散氧化铈为磨料的CMP抛光液，在STI抛光应用中显示出优良的平坦化抛光效率。

公开(公告)号：CN106916567B

公开(公告)日：2020-10-09

申请号：CN201510995356.8

申请日：2015-12-25

申请人： 安集微电子科技(上海)股份有限公司

发明人： 尹先升 ,  贾长征 ,  王雨春

IPC分类号： C09K3/14 ,  C01F17/00 ,  C09G1/02 ,  H01L21/306

摘要： 本发明公开了一种氧化铈磨料的制备方法及其在CMP中的应用，该制备方法主要包括，首先通过机械球磨法处理氧化铈前驱体，进一步在高温、高压条件下水热处理上述球磨氧化铈前驱体。本发明首次将球磨分散和水热法相结合，合成氧化铈纳米材料，并将其应用于CMP抛光中，表现出良好的抛光特性。

公开(公告)号：CN109251680A

公开(公告)日：2019-01-22

申请号：CN201710570237.7

申请日：2017-07-13

申请人： 安集微电子科技(上海)股份有限公司

发明人： 李守田 ,  尹先升 ,  贾长征 ,  王雨春

IPC分类号： C09G1/02

CPC分类号： C09G1/02

摘要： 本发明提供了一种化学机械抛光液，包含氧化铈研磨颗粒、苯甲酸类化合物及pH调节剂。采用上述组分配比的抛光液，能够显著提高其对二氧化硅介质层的抛光速率，抑制对氮化硅的抛光速率，提高二氧化硅对氮化硅的选择比，同时克服了现有技术中抛光速率不均匀的问题。

公开(公告)号：CN109251679A

公开(公告)日：2019-01-22

申请号：CN201710570211.2

申请日：2017-07-13

申请人： 安集微电子科技(上海)股份有限公司

发明人： 李守田 ,  尹先升 ,  贾长征 ,  王雨春

IPC分类号： C09G1/02 ,  H01L21/3105

CPC分类号： C09G1/02 ,  H01L21/3105

摘要： 本发明提供了一种化学机械抛光液，所述化学机械抛光液包含氧化铈磨料、低聚糖及pH调节剂。本发明还提供了一种采用上述配方的化学机械抛光液在二氧化硅介质表面抛光中的应用。采用上述配方的化学机械抛光液，能够保持低的缺陷度的同时显著提高氧化铈磨料对二氧化硅介质材料的抛光速率。