Invention Grant
- Patent Title: 一种化学机械抛光液
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Application No.: CN201710569910.5Application Date: 2017-07-13
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Publication No.: CN109251675BPublication Date: 2021-07-30
- Inventor: 李守田 , 尹先升 , 贾长征 , 王雨春
- Applicant: 安集微电子科技(上海)股份有限公司
- Applicant Address: 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区(南区)T6-9幢底层
- Assignee: 安集微电子科技(上海)股份有限公司
- Current Assignee: 安集微电子科技(上海)股份有限公司
- Current Assignee Address: 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区(南区)T6-9幢底层
- Agency: 北京大成律师事务所
- Agent 李佳铭; 沈汶波
- Main IPC: C09G1/02
- IPC: C09G1/02
Abstract:
本发明提供了一种化学机械抛光液，包含氧化铈磨料颗粒、聚季铵盐及pH调节剂。本发明中的聚季铵盐可控制氧化硅的抛光速率，使得在高压下达到高的氧化硅抛光速率，在低压下实现低的氧化硅的抛光速率，从而取得较低碟形凹陷(dishing)。
Public/Granted literature
- CN109251675A 一种化学机械抛光液 Public/Granted day:2019-01-22
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