发明授权
- 专利标题: 一种原子层沉积系统及方法
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申请号: CN201710638808.6申请日: 2017-07-31
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公开(公告)号: CN109321897B公开(公告)日: 2022-01-07
- 发明人: 秦海丰 , 李春雷 , 赵雷超 , 纪红 , 兰云峰 , 张芳 , 王勇飞 , 王洪彪 , 张瑶 , 储芾坪
- 申请人: 北京北方华创微电子装备有限公司
- 申请人地址: 北京市大兴区北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
- 专利权人: 北京北方华创微电子装备有限公司
- 当前专利权人: 北京北方华创微电子装备有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市大兴区北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
- 代理机构: 上海天辰知识产权代理事务所
- 代理商 陶金龙; 张磊
- 主分类号: C23C16/455
- IPC分类号: C23C16/455
摘要:
本发明提供了一种原子层沉积系统,具有反应腔室,与反应腔室相连接的前驱体传输管路,第一惰性气体传输管路与反应腔室连接,用于向反应腔室传输惰性气体,以维持反应腔室压力平稳;第二惰性气体传输管路与反应腔室连接,用于向反应腔室输送惰性气体,对反应腔室内进行吹扫,以及与反应腔室连接的真空管路和真空泵,用于抽出反应腔室内多余的气体,从而避免了复杂的气体清洁过程,减少了前驱体反应源的浪费;同时,确保了反应腔室的压强和气流场的稳定,避免气路扰动引起的杂质,从而获得致密性好、杂质含量低的薄膜。
公开/授权文献
- CN109321897A 一种原子层沉积系统及方法 公开/授权日:2019-02-12
IPC分类: