发明授权
- 专利标题： 阵列基板及其制作方法、显示装置
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申请号： CN201710774031.6申请日： 2017-08-31
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公开(公告)号： CN109427819B公开(公告)日： 2021-05-04
- 发明人: 操彬彬 , 艾力 , 张辉
- 申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号;
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 焦玉恒; 王小会
- 主分类号： H01L27/12
- IPC分类号： H01L27/12
摘要：
提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置。该阵列基板包括：衬底基板，包括像素区，所述像素区包括反射区；反射区薄膜，在所述反射区内；颗粒层，在所述反射区薄膜上，所述颗粒层被配置为使所述反射区薄膜远离所述衬底基板的一侧具有颗粒状的粗糙表面；反射电极，在所述颗粒层上。该阵列基板用以提高反射区的漫反射效果。
公开/授权文献
- CN109427819A 阵列基板及其制作方法、显示装置 公开/授权日：2019-03-05
IPC分类:
