- 专利标题: 一种氮化镓基发光二极管外延片及其生长方法
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申请号: CN201811063800.2申请日: 2018-09-12
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公开(公告)号: CN109473511B公开(公告)日: 2020-07-07
- 发明人: 王倩 , 洪威威 , 陆香花 , 周飚 , 胡加辉
- 申请人: 华灿光电(苏州)有限公司
- 申请人地址: 江苏省苏州市张家港市经济开发区晨丰公路
- 专利权人: 华灿光电(苏州)有限公司
- 当前专利权人: 京东方华灿光电(苏州)有限公司
- 当前专利权人地址: 215600 江苏省苏州市张家港市经济开发区晨丰公路
- 代理机构: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 徐立
- 主分类号: H01L33/00
- IPC分类号: H01L33/00 ; H01L33/02 ; H01L21/67
摘要:
本发明公开了一种氮化镓基发光二极管外延片及其生长方法,属于半导体技术领域。所述生长方法包括:提供一衬底;在所述衬底上生长N型半导体层;在所述N型半导体层上生长有源层;在由氢气形成的生长气氛中,在所述有源层上生长第一P型半导体层;在由氮气形成的生长气氛中,在所述第一P型半导体层上生长第二P型半导体层;其中,所述第一P型半导体层和所述第二P型半导体层均包括多个氮化镁层和多个掺杂镁的氮化镓层,所述多个氮化镁层和所述多个掺杂镁的氮化镓层交替层叠设置。本发明可以提高P型半导体层中的空穴浓度,最终提高LED的发光效率。
公开/授权文献
- CN109473511A 一种氮化镓基发光二极管外延片及其生长方法 公开/授权日:2019-03-15
IPC分类: