发明公开
- 专利标题: 耐高温QFN封装结构的制备方法
- 专利标题(英): Preparation method of high temperature resistant QFN package structure
-
申请号: CN201910167033.8申请日: 2019-03-06
-
公开(公告)号: CN109904125A公开(公告)日: 2019-06-18
- 发明人: 马磊 , 党鹏 , 杨光 , 彭小虎 , 王新刚 , 庞朋涛 , 任斌 , 王妙妙
- 申请人: 西安航思半导体有限公司
- 申请人地址: 陕西省西安市鄠邑区吕公路东段西户科技企业孵化器C3号楼
- 专利权人: 西安航思半导体有限公司
- 当前专利权人: 西安航思半导体有限公司
- 当前专利权人地址: 陕西省西安市鄠邑区吕公路东段西户科技企业孵化器C3号楼
- 代理机构: 苏州创元专利商标事务所有限公司
- 代理商 王健
- 主分类号: H01L23/29
- IPC分类号: H01L23/29 ; H01L23/367 ; H01L21/56
摘要:
本发明公开了一种耐高温QFN封装结构的制备方法,QFN封装结构包括位于环氧绝缘体中的散热焊盘、芯片和导电焊盘,所述芯片位于散热焊盘上,且所述芯片与散热焊盘之间设有银浆层,位于散热焊盘周边设有若干个导电焊盘,所述导电焊盘和芯片通过一引线连接,包括以下步骤:S1.先将硅微粉和阻燃剂与γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷混合均匀,进行表面处理;S2.再加入环氧树脂、线型酚醛树脂、液体丁腈橡胶、二苯基甲烷二异氰酸酯、焦碳酸二乙酯、磷酸二苄酯、5-氟-2-甲氧基苯胺、2,4,6-三(二甲氨基甲基)苯酚和脱模剂。本发明在保证良好力学性能的前提下,兼具有优秀的耐热性能,玻璃化温度达190~230℃,可满足大功率高发热芯片封装的要求。
公开/授权文献
- CN109904125B 耐高温QFN封装结构的制备方法 公开/授权日:2021-02-19
IPC分类: