本发明公开了一种离子束刻蚀用双层挡板，设置在位于离子源与晶圆之间的刻蚀反应腔体内，用于阻挡离子源射向晶圆的离子束；双层挡板包括平行并列设置且能同步转动的前挡板和后挡板，其中，前挡板邻近离子源的栅格网，后挡板邻近晶圆；前挡板和后挡板的面积均大于格栅网的面积；前挡板上设置有若干个贯通的溅射网孔。前挡板上溅射网孔的Z向纵截面为长条形、圆形、正方形、三角形、椭圆形、多边形或同心环形中的一种或组合。本发明采用两层挡板的设计，能减少所有可能会溅射进离子源内部的导电材料，保护了离子源不受伤害。