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公开(公告)号：CN111383971A
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201811635906.5
申请日：2018-12-29
申请人： 江苏鲁汶仪器有限公司
IPC分类号： H01L21/677
摘要： 本发明公开一种真空传送片装置，包括：腔体(1)、滑轨导向装置(2)、机械手(3)、钢带驱动机构(4)、传感器装置(5)和腔盖(6)，其中，所述腔体(1)和腔盖(6)之间采用铰链连接，形成可开启的密闭空间，所述滑轨导向装置(2)与所述机械手(3)连接，使机械手(3)沿滑轨导向方向运动，所述钢带驱动机构(4)与机械手(3)的中间部位相连接驱动所述机械手(3)运动，所述传感器装置(5)设置在所述腔体(1)的侧面靠近端部的位置，精确控制所述机械手(3)的行程及初始、终止位置。本发明能够实现机械手的运行的精确控制，并且可以调节其运行行程，适用于多种半导体设备的晶片取送。
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公开(公告)号：CN110047724A
公开(公告)日：2019-07-23
申请号：CN201910322647.9
申请日：2019-04-22
申请人： 江苏鲁汶仪器有限公司
IPC分类号： H01J37/305 , H01J37/30
摘要： 本发明公开了一种离子束刻蚀用双层挡板，设置在位于离子源与晶圆之间的刻蚀反应腔体内，用于阻挡离子源射向晶圆的离子束；双层挡板包括平行并列设置且能同步转动的前挡板和后挡板，其中，前挡板邻近离子源的栅格网，后挡板邻近晶圆；前挡板和后挡板的面积均大于格栅网的面积；前挡板上设置有若干个贯通的溅射网孔。前挡板上溅射网孔的Z向纵截面为长条形、圆形、正方形、三角形、椭圆形、多边形或同心环形中的一种或组合。本发明采用两层挡板的设计，能减少所有可能会溅射进离子源内部的导电材料，保护了离子源不受伤害。
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公开(公告)号：CN111383895B
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN201811639715.6
申请日：2018-12-29
申请人： 江苏鲁汶仪器有限公司
IPC分类号： H01J37/32 , H01L21/67 , H01L21/683 , G01R19/00
摘要： 本发明公开一种等离子体刻蚀设备及其鞘层电压的测量方法，能够简单准确地测量等离子体刻蚀设备的鞘层电压。该等离子体刻蚀设备，包括：设置在反应腔室内的静电吸盘，用于放置待刻蚀工件；静电吸盘包括至少一组电极对，每组电极对包括第一电极和第二电极；各电极对的表面被绝缘介质覆盖；每个第一电极与一个输出电压可调的第一直流电压源相连；每个第二电极与一个输出电压可调的第二直流电压源相连；第一电极连接第一直流电压源的回路中还串联有第一电阻，第二电极连接第二直流电压源的回路中还串联有第二电阻；第一直流电压源和第二直流电压源输出电压的极性相反。反应腔室中还设置有电压测量装置，用于测量每个第一电阻或第二电阻上的电压。
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公开(公告)号：CN110047724B
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN201910322647.9
申请日：2019-04-22
申请人： 江苏鲁汶仪器有限公司
IPC分类号： H01J37/305 , H01J37/30
摘要： 本发明公开了一种离子束刻蚀用双层挡板，设置在位于离子源与晶圆之间的刻蚀反应腔体内，用于阻挡离子源射向晶圆的离子束；双层挡板包括平行并列设置且能同步转动的前挡板和后挡板，其中，前挡板邻近离子源的栅格网，后挡板邻近晶圆；前挡板和后挡板的面积均大于格栅网的面积；前挡板上设置有若干个贯通的溅射网孔。前挡板上溅射网孔的Z向纵截面为长条形、圆形、正方形、三角形、椭圆形、多边形或同心环形中的一种或组合。本发明采用两层挡板的设计，能减少所有可能会溅射进离子源内部的导电材料，保护了离子源不受伤害。
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公开(公告)号：CN111376284A
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201811635921.X
申请日：2018-12-29
申请人： 江苏鲁汶仪器有限公司
摘要： 本发明公开一种机械手及其机械手指，用于输送晶片，所述机械手指包括手指本体和定位柱，其中所述手指本体具有多个限位孔，至少3个所述限位孔位于所述晶片的边界位置；所述定位柱可拆卸地设置于所述限位孔内，以使所述晶片卡设于所述定位柱上。通过在手指本体上设置多个限位孔，利用定位柱与不同的限位孔配合可以适应不同规格的晶片，从而可以提高机械手指的通用性。
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公开(公告)号：CN111326385A
公开(公告)日：2020-06-23
申请号：CN201811523752.0
申请日：2018-12-13
申请人： 江苏鲁汶仪器有限公司
IPC分类号： H01J37/32
摘要： 本发明公开一种真空腔室，包括：腔室主体(1)、内衬(2)和异型门阀(3)，腔室主体(1)的一个面(12)设有第一开口(11)，内衬(2)设置于腔室主体(1)内，在与第一开口(11)相应的位置设置有第二开口(21)，异型门阀(3)包括挡板(4)、水平推杆(5)、竖直推杆(6)和阀座(7)，挡板(4)的水平和竖直运动分别由水平推杆(5)和竖直推杆(6)控制，挡板(4)和水平推杆(5)之间、水平推杆(5)和竖直推杆(6)之间均采用真空波纹管连接，异型门阀(3)通过阀座(7)安装在面(12)的第一开口(11)下方，通过开启或关闭挡板(4)使第一开口(11)和第二开口(21)暴露或封闭。
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公开(公告)号：CN111243926A
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN201811439250.X
申请日：2018-11-29
申请人： 江苏鲁汶仪器有限公司
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/305
摘要： 本发明公开一种载台系统，包括：载台(205)和载台基座(206)，其中，所述载台(205)暴露在真空中，其用于承接样品，所述载台基座(206)由载台基座主体(217)、过渡连接(209)和中空轴(214)组成，其中，中空轴(214)穿过真空室(203)的腔壁，实现传递旋转运动，载台基座(206)的内部空间相互连通，可以将真空室(203)外部的电力信号线路、液体管路以及气体管路引入到载台(205)上，载台(205)及载台基座(206)可以绕着中空轴(214)的轴线方向旋转，并且可停止在任意角度。本发明的载台实现了真空环境下的两个自由度的运动，即载台可以带样品自转，并且载台和载台基座可以绕翻转轴旋转，使样品在加工过程中能够完全暴露在离子源、溅射源等下，提高了工艺的均匀性。
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公开(公告)号：CN111192752A
公开(公告)日：2020-05-22
申请号：CN201811353354.9
申请日：2018-11-14
申请人： 江苏鲁汶仪器有限公司
摘要： 本发明公开一种功率分配电感耦合线圈及具有其的等离子体处理装置。功率分配电感耦合线圈包括多个定值电容、多个可调电容和三组电感线圈，其中，第一线圈绕组和第二线圈绕组相互嵌套，为外圈绕组部分，第三线圈绕组为内圈绕组部分；第一可调电容、第一线圈绕组、第一定值电容串联组成第一支路，第一定值电容末端接地；第二可调电容、第二线圈绕组、第二定值电容、第三线圈绕组、第三定值电容的次序串联组成第二支路，第三定值电容末端接地；第一可调电容和第二可调电容的空闲端相连，使第一支路与第二支路形成并联。通过调节第一可调电容和第二可调电容的比值，使不同线圈绕组中的功率分配不同，改变反应腔内等离子体分布，从而提高工艺的均匀性。
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公开(公告)号：CN110223903A
公开(公告)日：2019-09-10
申请号：CN201910322666.1
申请日：2019-04-22
申请人： 江苏鲁汶仪器有限公司
IPC分类号： H01J37/32
摘要： 本发明公开了一种均匀对称布置且同步开合的离子源挡板，包括n块n等分挡板，n≥2；n块n等分挡板大小形状相同，均位于同一个竖向平面内，且以离子源挡板中心点为对称中心，呈均匀对称分布；n块n等分挡板均能在对应驱动机构的作用下，以离子源挡板中心点为圆心，沿径向进行同步往返滑移；当n块n等分挡板向着离子源挡板中心点滑移并拼合后，能将离子源栅网进行完全遮挡；当n块n等分挡板向着背离离子源挡板中心点滑移时，能使离子源栅网无遮挡。本发明能使晶圆的中部和边缘均能同时均匀地接受离子束的轰击，保证挡板在完全脱离离子源栅网之前晶圆的表面接受相同的刻蚀程度，提高了晶圆成品的刻蚀均匀性。
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公开(公告)号：CN110132484A
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201910470430.2
申请日：2019-05-31
申请人： 江苏鲁汶仪器有限公司
IPC分类号： G01L21/30
摘要： 本发明提出一种离子束刻蚀系统的真空测量工具的保护装置，所述离子束刻蚀系统包括反应腔体和用于测量反应腔体的内部真空度真空测量工具，所述反应腔体壁上设置有通气接口，所述真空测量工具连接在通气接口上。所述保护装置包括设置在反应腔体内的遮挡通气接口的阻隔板；所述阻隔板贴近通气接口处的反应腔体内壁，所述通气接口沿其中轴线投影至阻隔板上的投影面位于阻隔板的遮挡面范围内。所述保护装置还包括驱动阻隔板远离或靠近通气接口的推拉机构。本发明通过贴近遮挡通气接口的阻隔板，有效阻隔金属颗粒和离子束；通过推拉机构驱动阻隔板远离或靠近通气接口，防止杂质堵塞阻隔板与反应腔体内壁的间隙，在满足通气要求下保持合适间隙。
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