本发明提供一种导流机构、坩埚装置、蒸镀设备及蒸镀方法，其中导流机构包括：收集管，所述收集管为两端开口的管状结构，所述收集管包括第一端部和用于盖设在蒸发源上的第二端部；回收组件，所述回收组件盖设在所述收集管的所述第一端部；导流组件，所述导流组件设置于所述收集管内，所述导流组件的进气口朝向所述第二端部，所述导流组件的出气口朝向所述第一端部，所述导流组件用于将所述蒸发源释放的气体粒子导流至所述回收组件内。这样，通过增设导流机构吸收预设阶段时备用的坩埚装置释放的气体分子，避免释放的气体粒子影响蒸镀工艺的成膜质量。